季华实验室张川东获国家专利权
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龙图腾网获悉季华实验室申请的专利一种窄滞回宽度薄膜材料及其制备方法、应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119592913B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411859498.7，技术领域涉及：C23C14/08；该发明授权一种窄滞回宽度薄膜材料及其制备方法、应用是由张川东;郭远军;杨振怀;刘宏;胡强设计研发完成，并于2024-12-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种窄滞回宽度薄膜材料及其制备方法、应用在说明书摘要公布了：本申请涉及传感器技术领域，主要涉及一种窄滞回宽度薄膜材料及其制备方法、应用。本申请通过对二氧化钒薄膜进行掺杂引入带有磁性的稀土元素钆（Gd）和钛（Ti），作为杂质离子可有效地取代或破坏钒离子的V4+‑V4+共价键，进而增加薄膜中的缺陷对二氧化钒薄膜的相变特性进行调控，所提供的薄膜材料还具有窄的滞回宽度，有助于实现零滞回宽度的广泛应用突破，同时还具备有优异的可逆相变与循环稳定性以及超灵敏温度响应与快速开关特性，可为传感器领域的发展提供有力的支持。
本发明授权一种窄滞回宽度薄膜材料及其制备方法、应用在权利要求书中公布了：1.一种窄滞回宽度薄膜材料，其特征在于，包括二氧化钒薄膜；所述二氧化钒薄膜掺杂有钆和钛； 所述钆在所述窄滞回宽度薄膜材料的掺杂量为1at%-7.5at%，所述钛在所述窄滞回宽度薄膜材料的掺杂量为1at%-10at%。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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