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龙图腾网获悉中国科学院长春光学精密机械与物理研究所申请的专利光学加工非光栅轨迹刀痕预测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120068474B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510544985.2，技术领域涉及：G06F30/20；该发明授权光学加工非光栅轨迹刀痕预测方法是由李龙响;刘夕铭;李兴昶;程强;张峰;张学军设计研发完成，并于2025-04-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本光学加工非光栅轨迹刀痕预测方法在说明书摘要公布了：本发明涉及光学加工技术领域，尤其涉及一种光学加工非光栅轨迹刀痕预测方法，方法包括：根据待加工工件的面形和加工工艺，获得待加工工件的面形残差和去除函数分布；确定加工工件的非光栅加工轨迹，并根据得到的面形残差和去除函数分布，确定加工工件的驻留时间；基于得到的去除函数分布，结合得到的驻留时间计算非光栅加工轨迹上相邻驻留点之间的连续工具影响函数；根据得到的连续工具影响函数，计算非光栅轨迹的预测刀痕。本发明按照需求计算正确的驻留时间，建立子驻留点，根据驻留时间进行子驻留时间分配，进行连续性仿真，进而实现非光栅轨迹情况下的刀痕预测。

本发明授权光学加工非光栅轨迹刀痕预测方法在权利要求书中公布了：1.一种光学加工非光栅轨迹刀痕预测方法，其特征在于，包括： S1：根据待加工工件的面形和加工工艺，获得所述待加工工件的面形残差和去除函数分布； S2：确定所述加工工件的非光栅加工轨迹，并根据步骤S1得到的面形残差和去除函数分布，确定所述加工工件的驻留时间；步骤S2中，第j个驻留点ξj,ηj处的去除函数分布Rj通过下式得到： ； 其中，Transj表示第j个驻留点的姿态变换函数，R表示所述去除函数分布，第j个驻留点ξj,ηj处的去除函数分布Rj的方向与所述非光栅加工轨迹的法线方向相同； S3：在相邻两驻留点之间设置Pn个子驻留点，基于步骤S1得到的去除函数分布，结合步骤S2得到的驻留时间，通过下式计算连续工具影响函数： ； 其中，l表示第l个子驻留点，1≤l≤Pn，mj表示第j个驻留点与第j+1个驻留点之间的驻留段,1≤mj≤J-1，J表示所述驻留点ξj,ηj的总数，表示驻留段mj对应的连续工具影响函数，表示驻留段mj中第l个子驻留点的连续工具函数切片，α,β表示子驻留点坐标，DTl表示第l个子驻留点的子驻留时间向量；子驻留时间向量DTl通过下式得到： ； 其中，a表示加工工具在加工过程中的移动加速度，表示所述加工工具在驻留段mj的起始移动速度，表示所述加工工具在驻留段mj中从第l个子驻留点向第l+1个子驻留点移动的弧长； 驻留段mj中第l个子驻留点的连续工具函数切片由下式得： ； 其中，supp表示求变量不为0的区域，\表示差集，CD表示扩维范围，表示驻留段mj中第l个子驻留点的去除函数分布，由下式得： ； 其中，表示驻留段mj中第l个子驻留点的姿态变换函数； 扩维范围CD包围两驻留点即可，即： ； 其中，Rωmin表示去除函数分布R的横坐标的最小值，Rωmax表示去除函数分布R的横坐标的最大值，s'ε表示弧长沿非光栅加工轨迹的驻留点的横坐标方向的投影，s'η表示弧长沿非光栅加工轨迹的驻留点的纵坐标方向的投影，Rvmin表示去除函数分布R的纵坐标的最小值，Rvmax表示去除函数分布R的纵坐标的最大值； S4：根据步骤S3得到的连续工具影响函数，计算所述非光栅轨迹的预测刀痕； 在步骤S4中： 通过所述连续工具影响函数计算各面形点间的连续工具函数，过程如下式： ； 其中，表示所述驻留段mj的全局连续工具函数，ED表示全局扩维范围，即： ； 其中，是元件的有效尺寸区域； 根据所述连续工具函数计算加工过程中的合成去除量； 将所述面形残差与所述合成去除量做差，得到所述预测刀痕。

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