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龙图腾网获悉中国科学院长春光学精密机械与物理研究所申请的专利元件制造公差分配确定光学加工工艺参数方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120068473B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510544983.3，技术领域涉及：G06F30/20；该发明授权元件制造公差分配确定光学加工工艺参数方法是由李龙响;刘夕铭;李兴昶;程强;张峰;张学军设计研发完成，并于2025-04-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本元件制造公差分配确定光学加工工艺参数方法在说明书摘要公布了：本发明涉及光学加工技术领域，尤其涉及一种元件制造公差分配确定光学加工工艺参数方法，将工艺参数下产生的元件表面加工误差表征成特征谱形式，将不同工艺参数的误差特征谱组成集合，把误差特征谱与元件标准表面一同在光学设计软件中进行公差分析，得到需要严控的特征谱，将严控特征谱与特征谱集合进行比对，得到最优误差特征谱对应的工艺参数就是最佳工艺参数。本发明有效解决了现有方法中无法确定满足公差的加工方法的技术问题，为后续的加工提供理论基础。

本发明授权元件制造公差分配确定光学加工工艺参数方法在权利要求书中公布了：1.一种元件制造公差分配确定光学加工工艺参数方法，其特征在于，包括： S1：确定光学系统的结构，在所述光学系统中确定需要控制加工误差的光学元件，并确定对所述光学元件加工时的工艺参数空间； S2：根据步骤S1的工艺参数空间中的工艺参数，得到对应的误差特征图；对所述误差特征图进行多项式展开，得到加工所述光学元件时产生的对应的误差特征谱； S3：将步骤S2得到的误差特征谱添加到步骤S1中光学元件的表面后，对当前光学系统进行公差分析，公差分析后的误差特征谱和设定的主要公差指标范围的最大值的集合即为主要影响项数集合； 步骤S3包括：从所述误差特征谱中，随机选择其中一个工艺参数对应的误差特征谱；将选择的误差特征谱作为形式误差特征谱添加到所述光学元件上，得到当前光学系统；设置主要公差指标范围；根据所述主要公差指标范围，对当前光学系统进行蒙特卡洛公差分析：根据所述主要公差指标范围和所述形式误差特征谱，通过下式确定所述主要影响项数集合： ； 其中，σ表示所述主要影响项数集合，Lfk表示第k项形式误差特征谱，δk表示第k项形式误差特征谱对应的主要公差指标范围，MC·表示蒙特卡洛分析函数，表示取前η个最大值时对应的η个形式误差特征谱的项数； S4：根据步骤S3得到的主要影响项数集合，所述误差特征谱中的最小值即为最优误差特征谱，所述最优误差特征谱对应的工艺参数即为最优工艺参数。

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