东京毅力科创株式会社四本松康太获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利等离子体处理装置、处理方法及上部电极构造获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112447484B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010905300.X，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权等离子体处理装置、处理方法及上部电极构造是由四本松康太;石桥淳治;佐佐木淳一;花冈秀敏设计研发完成，并于2020-09-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子体处理装置、处理方法及上部电极构造在说明书摘要公布了：一种等离子体处理装置，其用于对在基板的边缘区域产生的倾斜形状的随时间的变化进行抑制。该等离子体处理装置包括：腔室；下部电极，用于在所述腔室内放置基板；边缘环，布置于所述下部电极的周围；部件，布置于在所述腔室内与所述下部电极相对的上部电极的周围；气体供给部，向所述部件与所述下部电极之间的处理空间供给处理气体；以及高频供电部，向所述下部电极或所述上部电极施加用于生成所述处理气体的等离子体的高频电力，其中，所述部件具有内侧部件、以及位于所述内侧部件的外侧的外侧部件，所述外侧部件在径向上相对于所述边缘环位于外侧，所述外侧部件的至少一部分能够根据所述边缘环的消耗而在上下方向上移动。
本发明授权等离子体处理装置、处理方法及上部电极构造在权利要求书中公布了：1.一种等离子体处理装置，包括： 腔室； 下部电极，用于在所述腔室内放置基板； 边缘环，布置于所述下部电极的周围； 部件，布置于支承部件的下方，该支承部件用于将在所述腔室内与所述下部电极相对的上部电极支承在腔室主体的上部； 气体供给部，向所述部件与所述下部电极之间的处理空间供给处理气体；以及 高频供电部，向所述下部电极或所述上部电极施加用于生成所述处理气体的等离子体的高频电力， 其中，所述部件具有由导电性部件形成的内侧部件、以及由导电性部件形成且位于所述内侧部件的径向外侧的外侧部件， 所述上部电极与所述内侧部件之间电绝缘， 所述外侧部件与所述内侧部件之间电绝缘， 所述外侧部件在径向上相对于所述边缘环位于外侧， 所述外侧部件的至少一部分能够根据所述边缘环的消耗而在上下方向上移动。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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