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龙图腾网获悉富士胶片株式会社申请的专利图案形成方法、电子器件的制造方法及感光化射线性或感放射线性树脂组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114945868B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180009570.5，技术领域涉及：G03F7/039；该发明授权图案形成方法、电子器件的制造方法及感光化射线性或感放射线性树脂组合物是由吉野文博;楜泽佑真设计研发完成，并于2021-02-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本图案形成方法、电子器件的制造方法及感光化射线性或感放射线性树脂组合物在说明书摘要公布了：本发明提供一种图案形成方法、电子器件的制造方法及感光化射线性或感放射线性树脂组合物，所述图案形成方法包括：i由特定的感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜厚700nm以上的感光化射线性或感放射线性膜的工序；ii向上述感光化射线性或感放射线性膜照射波长200nm以下的光化射线或放射线的工序；及iii使用显影液对被照射上述波长200nm以下的光化射线或放射线的感光化射线性或感放射线性膜进行显影的工序。

本发明授权图案形成方法、电子器件的制造方法及感光化射线性或感放射线性树脂组合物在权利要求书中公布了：1.一种图案形成方法，其包括： （i）由感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜厚700nm以上的感光化射线性或感放射线性膜的工序； （ii）对所述感光化射线性或感放射线性膜照射波长200nm以下的光化射线或放射线的工序；及 （iii）使用显影液对被所述波长200nm以下的光化射线或放射线照射的感光化射线性或感放射线性膜进行显影的工序，其中， 所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有（A）具有酸分解性基团的聚合物及（B）光产酸剂， 所述（A）聚合物包含具有酸分解性基团的重复单元，所述具有酸分解性基团的重复单元包含由下述通式（AI）表示的重复单元， 所述（A）聚合物进一步包含具有亲水基团的重复单元，所述具有亲水基团的重复单元包含具有羧基或羟基的重复单元，且包含由下述通式（III）表示的重复单元， 所述（A）聚合物的重均分子量为8000以下， 所述（B）光产酸剂包含三芳基锍化合物、由下述通式（ZI-3）表示的化合物或由下述通式（ZI-4）表示的化合物， 所述三芳基锍化合物的芳基任选分别独立地具有烷基、环烷基、芳基、烷氧基、卤原子、羟基或苯硫基作为取代基， 在通式（AI）中， Xa1表示氢原子、卤原子或1价的有机基团， T表示单键或2价的连接基， Rx1～Rx3分别独立地表示烷基或环烷基， Rx1～Rx3中的任意2个任选键合而形成环结构，也任选不形成环结构， 上述通式（III）中， A表示酯键或酰胺键，其中上述酯键为由-COO-表示的基团，上述酰胺键为由-CONH-表示的基团， n为由-R0-Z-表示的结构的重复数，并表示0～5的整数， R0表示亚烷基、亚环烷基或其组合，R0存在多个的情况下，分别独立地表示亚烷基、亚环烷基或其组合， Z表示单键、醚键、酯键、酰胺键、氨基甲酸酯键或脲键，Z存在多个的情况下，分别独立地表示单键、醚键、酯键、酰胺键、氨基甲酸酯键或脲键， R8表示具有内酯结构或磺内酯结构的1价的有机基团， R7表示氢原子、卤原子或1价的有机基团， 上述通式（ZI-3）中， R1表示烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、芳基或烯基， R2及R3分别独立地表示氢原子、烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基或芳基，R2与R3任选地彼此连接而形成环， R1与R2任选地彼此连接而形成环， RX及Ry分别独立地表示烷基、环烷基、烯基、芳基、2-氧代烷基、2-氧代环烷基、烷氧基羰基烷基或烷氧基羰基环烷基，RX与Ry任选地彼此连接而形成环，该环结构任选地包含氧原子、氮原子、硫原子、酮基、醚键、酯键、酰胺键， Z-表示阴离子， 通式（ZI-4）中， l表示0～2的整数， r表示0～8的整数， R13表示氢原子、氟原子、羟基、烷基、环烷基、烷氧基或烷氧基羰基， R14表示羟基、烷基、环烷基、烷氧基、烷氧基羰基、烷基羰基、烷基磺酰基或环烷基磺酰基，当存在多个R14时，多个R14任选地彼此相同或不同， R15分别独立地表示烷基、环烷基或萘基，2个R15任选地彼此键合而形成环，当2个R15彼此键合而形成环时，该环结构任选地包含氧原子、氮原子、硫原子、酮基、醚键、酯键、酰胺键， X-表示阴离子。

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