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龙图腾网获悉富士胶片株式会社申请的专利非浸透性基材用预处理液、油墨组、图像记录用基材、图像记录用基材的制造方法、图像记录物及图像记录方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115298038B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180021026.2，技术领域涉及：B41M5/00；该发明授权非浸透性基材用预处理液、油墨组、图像记录用基材、图像记录用基材的制造方法、图像记录物及图像记录方法是由纲史子;仮屋俊博;铃木昭太设计研发完成，并于2021-02-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本非浸透性基材用预处理液、油墨组、图像记录用基材、图像记录用基材的制造方法、图像记录物及图像记录方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种能够进一步扩大点的预处理液及其应用。一种非浸透性基材用预处理液及其应用，所述非浸透性基材用预处理液含有阴离子性树脂和水性介质，阴离子性树脂的ClogP值为1.40以上，阴离子性树脂中的源自具有碳原子数2以上的链状烷基的甲基丙烯酸烷基酯的结构单元的含量相对于阴离子性树脂的总质量小于5质量％。

本发明授权非浸透性基材用预处理液、油墨组、图像记录用基材、图像记录用基材的制造方法、图像记录物及图像记录方法在权利要求书中公布了：1.一种非浸透性基材用预处理液，其含有阴离子性树脂和水性介质， 所述阴离子性树脂的ClogP值为1.40以上， 所述阴离子性树脂中的源自具有碳原子数2以上的链状烷基的甲基丙烯酸烷基酯的结构单元的含量相对于所述阴离子性树脂的总质量小于5质量％， 所述阴离子性树脂含有源自含阴离子性基团的单体的结构单元， 所述含阴离子性基团的单体的ClogP值为-4.00以上， 所述阴离子性树脂含有选自由下述式1所示的结构单元及下述式2所示的结构单元组成的组中的至少1种结构单元作为所述源自含阴离子性基团的单体的结构单元， 所述源自含阴离子性基团的单体的结构单元的含量相对于所述阴离子性树脂的总质量为1质量％～15质量％， 所述阴离子性树脂含有源自含氢键性基团的单体的结构单元， 所述含氢键性基团的单体的ClogP值为0.20以上， 所述源自含氢键性基团的单体的结构单元为选自由下述式3所示的结构单元及下述式4所示的结构单元组成的组中的至少1种， 所述源自含氢键性基团的单体的结构单元的含量相对于所述阴离子性树脂的总质量为5质量％～50质量％， 式1及式2中，R1分别独立地表示氢原子或甲基，L1分别独立地表示碳原子数1～10的亚烷基或单键，M分别独立地表示氢原子或阳离子， 式3及式4中，R2分别独立地表示氢原子或碳原子数1～4的烷基， 式3中， A2表示-NH-， L2表示碳原子数1～6的亚烷基或单键， Y2表示碳原子数1～6的烷基、-OH、-OR3、-NH2、-NR3H、-NR3R4或-C＝OR3， 式4中， L3表示选自由碳原子数1～6的亚烷基、-O-、及-C＝O-组成的第2组中的1种2价基团、或将选自所述第2组中的2种以上组合而成的2价基团， Y3表示卤原子、-OH、-NH2、-NR3H或-C＝OR3， R3及R4分别独立地表示碳原子数1～6的烷基。

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