日本碍子株式会社服部良祐获国家专利权
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龙图腾网获悉日本碍子株式会社申请的专利电光元件用复合基板获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115516368B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180005302.6，技术领域涉及：G02F1/03；该发明授权电光元件用复合基板是由服部良祐;多井知义;浅井圭一郎;近藤顺悟设计研发完成，并于2021-05-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本电光元件用复合基板在说明书摘要公布了：本发明提供一种复合基板，其剥离得到显著抑制，并且，制成电光元件的情况下，光的传播损失较小，能够进行高速及低电压驱动，此外，能够实现即便在严酷的高温环境下也能够维持优异的可靠性的非常薄型的电光元件。本发明的实施方式的电光元件用复合基板100按如下顺序具备：具有电光效应的电光结晶基板10、第一高介电常数层21、第二高介电常数层22、以及支撑基板30。第一高介电常数层21和第二高介电常数层22直接键合，在第一高介电常数层21与第二高介电常数层22的接合界面形成有非晶质层40。
本发明授权电光元件用复合基板在权利要求书中公布了：1.一种电光元件用复合基板，其中， 按如下顺序具备：具有电光效应的电光结晶基板、第一高介电常数层、第二高介电常数层、以及支撑基板， 该第一高介电常数层和该第二高介电常数层直接键合，在该第一高介电常数层与该第二高介电常数层的接合界面形成有非晶质层， 在所述电光结晶基板直接形成有所述第一高介电常数层，在所述支撑基板直接形成有低介电常数层，在该低介电常数层直接形成有所述第二高介电常数层， 该低介电常数层包含氧化硅作为主成分且还包含氩，该低介电常数层中的氩浓度为1.0原子％以下， 该第一高介电常数层及该第二高介电常数层的介电常数大于该低介电常数层的介电常数。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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