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龙图腾网获悉长鑫存储技术有限公司申请的专利清洗装置及其清洗方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116013804B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111231207.6，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权清洗装置及其清洗方法是由郗宁设计研发完成，并于2021-10-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本清洗装置及其清洗方法在说明书摘要公布了：本公开提供了一种清洗装置及其清洗方法，清洗装置包括：清洗腔室、气体发生器、固定组件、冷却组件和回收组件，清洗腔室内设有间隔设置的冷却区域、清洗区域和加热区域；气体发生器用于对加热区域升温并生成清洗气体；固定组件用于将半导体结构固定于清洗区域中，半导体结构的第二面上图形区，第二面朝向加热区域的方向；冷却组件与冷却区域连通，用于对半导体结构的第一面执行冷却制程，使进入图形区的清洗气体冷凝为清洗液体；回收组件与清洗腔室连通，用于回收再次汽化的清洗液体。本公开的清洗装置通过清洗气体的状态变化对半导体结构的图形区进行清洗，有效减少清洗过程中表面毛细张力对图形区的影响，提高清洗质量。

本发明授权清洗装置及其清洗方法在权利要求书中公布了：1.一种清洗装置，其特征在于，包括： 清洗腔室，所述清洗腔室内构造成依次间隔设置的冷却区域、清洗区域和加热区域，所述冷却区域位于所述加热区域的上方； 气体发生器，用于对所述加热区域升温并生成清洗气体，所述气体发生器包括具有容纳腔的壳体和加热组件，所述容纳腔用于盛放清洗剂；所述壳体包括具有开口的壳本体以及盖设在所述开口上的罩体，所述壳本体上设有分别与所述容纳腔相连通的清洁气体管路和供液管路，所述清洁气体管路和所述供液管路位于所述壳本体的不同侧，所述清洁气体管路用于清洗后对所述清洗腔室进行干燥处理，所述供液管路用于输送所述清洗剂，所述罩体设置有气体出口，所述清洗气体由所述气体出口向外输出； 固定组件，用于将半导体结构固定于所述清洗区域中，所述半导体结构具有相对设置的第一面和第二面，所述第二面上具有预设深宽比的图形区，其中，所述第二面朝向所述加热区域的方向； 与所述冷却区域连通的冷却组件，用于对所述第一面执行冷却制程，使进入所述图形区的所述清洗气体冷凝为清洗液体； 回收组件，与所述清洗腔室连通，用于回收再次汽化后的所述清洗液体。

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