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龙图腾网获悉苏州威陌电子信息科技有限公司申请的专利曲面阵列快速成像方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113835222B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111264008.5，技术领域涉及：G02B27/00；该发明授权曲面阵列快速成像方法是由张继龙;张继康设计研发完成，并于2021-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本曲面阵列快速成像方法在说明书摘要公布了：本发明涉及光学成像、微波成像、雷达探测、声呐、超声成像以及基于声、光、电等媒介的目标探测、成像识别、无线通信技术领域，具体涉及一种曲面阵列快速成像方法及其在上述各领域中的应用。采用本发明方法，可以实现曲面阵列的快速成像，适用于各种非平面阵列以及共形阵列，能够实现快速成像和目标检测。此外，本发明方法还具有兼容性好、运算量小、成像效果佳、适用范围广等优点。

本发明授权曲面阵列快速成像方法在权利要求书中公布了：1.一种曲面阵列快速成像方法，其特征在于，所述方法基于透镜成像原理，结合电磁场理论，根据天线阵列接收到的目标信号，通过单元信号的幅度、相位加权，采用高效并行算法，获得目标对应的像场分布，其具体算法如下： ； 其中：j为虚数单位，e为欧拉常数，为像场分布，为阵列单元接收到的目标信号，A mn 为阵列单元幅度加权系数，为阵列单元聚焦相位加权系数，为阵列单元相位补偿系数，为阵列单元扫描相位加权系数，M为x方向的阵列单元数量，N为y方向的阵列单元数量，（x m ，y n ）为阵列单元的坐标，（δ，σ）为像点的坐标，V为像距，即成像平面到阵列平面的距离，η为对象选择性参数，根据成像系统的特性选择不同的值，m、n分别为阵列单元x方向与y方向的序号，为波数，λ为波长，符号∑代表求和运算； 所述方法通过选择不同的参数η值，可适用于不同的成像系统； 所述方法包括下述步骤： 步骤一：计算阵列单元幅度加权系数A mn ，对阵列单元信号进行幅度加权以降低副瓣电平； 步骤二：计算阵列单元聚焦相位加权系数，对阵列单元信号进行聚焦相位加权以实现成像聚焦； 步骤三：计算阵列单元相位补偿系数，对阵列单元信号进行曲面阵列相位补偿以改善成像性能，其中： 阵列单元相位补偿系数的计算公式为： ； 其中，表示曲面阵列单元到理想阵列平面的距离误差，所述理想阵列平面是指经过曲面阵列的中心，并且与曲面阵列法线方向相垂直的平面； 步骤四：计算阵列单元扫描相位加权系数，对阵列单元信号进行波束扫描相位加权以调整成像系统中心视角方向； 步骤五：采用高效并行算法，对阵列单元信号进行快速成像处理； 步骤六：解算像场坐标，对像场进行坐标反演获得真实目标的位置。

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