长鑫存储技术有限公司苏明哲获国家专利权
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龙图腾网获悉长鑫存储技术有限公司申请的专利半导体清洗装置及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116092967B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111313846.7，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权半导体清洗装置及方法是由苏明哲设计研发完成，并于2021-11-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体清洗装置及方法在说明书摘要公布了：一种半导体清洗装置及方法，包括：机台本体设置有清洗腔室，清洗腔室中夹持有晶圆，晶圆随着机台本体中的旋转底座做旋转运动；机械手臂通过固定在机台本体上的轴进行绕轴旋转；喷嘴组包括第二喷嘴、第四喷嘴、第三喷嘴和第一喷嘴依次排列，喷嘴用于喷洒药液以清洗晶圆；空气喷入装置与清洗腔室连接，用于产生压缩干燥空气以压低喷嘴喷出的药液在晶圆上方形成的反溅面。本公开提供的装置通过改变喷嘴组的高度、喷嘴在机械手臂运动过程中的工作位置以及加入空气喷入装置，降低了在加工过程中喷嘴喷出的药液在晶圆表面上形成的反溅面的高度，降低了其它喷嘴形成悬滴的概率，同时减少了由于喷嘴悬滴滴落在晶圆表面产生的水痕现象，提高了产品的良率。
本发明授权半导体清洗装置及方法在权利要求书中公布了：1.一种半导体清洗装置，其特征在于，包括： 机台本体，所述机台本体设置有清洗腔室，所述清洗腔室中夹持有晶圆，所述晶圆随着所述机台本体中的旋转底座做旋转运动； 机械手臂，所述机械手臂通过固定在所述机台本体上的轴进行绕轴旋转； 喷嘴组，所述喷嘴组设置在所述机械手臂的一端，所述喷嘴组包括第二喷嘴、第四喷嘴、第三喷嘴和第一喷嘴依次排列，所述第三喷嘴与所述第四喷嘴的长度小于所述第二喷嘴的长度，所述喷嘴用于喷洒药液以清洗所述晶圆； 空气喷入装置，所述空气喷入装置与所述清洗腔室连接，所述空气喷入装置用于产生压缩干燥空气以压低所述喷嘴喷出的药液在所述晶圆上方形成的反溅面。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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