华中农业大学江洪获国家专利权
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龙图腾网获悉华中农业大学申请的专利含羰基炔结构的AIE分子、AIE分子修饰的配合物及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116874363B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310710065.4，技术领域涉及：C07C49/84；该发明授权含羰基炔结构的AIE分子、AIE分子修饰的配合物及其应用是由江洪;徐祖辉;向宗耀设计研发完成，并于2023-06-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本含羰基炔结构的AIE分子、AIE分子修饰的配合物及其应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种含羰基炔结构的AIE分子、AIE分子修饰的配合物及其应用；AIE分子修饰的抗生素配合物既可直接用于抑菌，对耐甲氧西林金黄色葡萄球菌和李斯特菌抑制效果比未改性的原抗生素分子抑菌效果更强；该AIE分子修饰的配合物也可用作对细菌的光动力杀菌剂和用于快速检测病原菌。同时AIE分子修饰的噬菌体配合物与并将磁珠与抗生素偶联物联用，实现对病原菌的检测。通过将不同浓度的抗生素分子分别与含羰基炔结构的AIE分子反应，然后加入定量的细菌及磁珠偶联的噬菌体，磁分离后，建立抗生素浓度与荧光强度之间的线性方程，即可实现对抗生素残留的检测。
本发明授权含羰基炔结构的AIE分子、AIE分子修饰的配合物及其应用在权利要求书中公布了：1.一种含羰基炔结构的AIE分子的配合物，其特征在于：所述配合物由含羰基炔结构的AIE分子修饰得到，其结构式为： 其中，R1为： 中任意一种； R2为－O－R3或－NH－R3， 或，－S－Phage或－NH－Phage； R3为抗生素分子残基，Phage为噬菌体。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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