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龙图腾网获悉中国科学院长春光学精密机械与物理研究所申请的专利一种光学元件面形检测方法及系统、设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120403490B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510930807.3，技术领域涉及：G01B11/24；该发明授权一种光学元件面形检测方法及系统、设备是由胡海翔;张学军;田明森;李明茁设计研发完成，并于2025-07-07向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种光学元件面形检测方法及系统、设备在说明书摘要公布了：本发明公开了一种光学元件面形检测方法及系统、设备，涉及光学检测技术领域，用于解决现有面形检测方法存在波前退化导致仪器传递函数衰减而影响面形检测的问题。本发明将被检测元件的被检测面光场分解为多个微元，获得被检测面光场的微元通过干涉检测装置后的理想成像位置，并建立被检测面光场的微元通过干涉检测装置后传播至成像面的波前退化模型，并根据波前退化模型建立描述成像面的像元接收的光场与被检测面光场的所述多个微元通过干涉检测装置后的未退化波前的关系的表达式，进而根据第一面形结果和表达式，求解未退化波前，根据所述多个微元的未退化波前获得被检测面的第二面形结果，本发明能够更准确地表征被检测元件的面形信息。

本发明授权一种光学元件面形检测方法及系统、设备在权利要求书中公布了：1.一种光学元件面形检测方法，其特征在于，应用干涉检测装置，所述干涉检测装置和被检测元件相对设置，所述干涉检测装置用于获取所述被检测元件的被检测面光场以获得被检测面的第一面形结果； 所述光学元件面形检测方法包括： 将所述被检测元件的所述被检测面光场分解为多个微元，获得在所述被检测元件的坐标系下所述被检测面光场的所述微元的位置； 基于所述被检测面光场的所述微元的位置，获得所述被检测面光场的所述微元通过所述干涉检测装置后的理想成像位置； 根据所述被检测面光场的所述微元的所述理想成像位置，建立所述被检测面光场的所述微元的波前退化模型，所述波前退化模型描述所述被检测面光场的所述微元通过所述干涉检测装置后，从所述理想成像位置传播至所述干涉检测装置的成像面的波前变化过程，所述被检测面光场的所述微元通过所述干涉检测装置后在所述理想成像位置时的波前为所述被检测面光场的所述微元通过所述干涉检测装置后的未退化波前； 根据所述被检测面光场的所述多个微元的所述波前退化模型建立表达式，所述表达式描述所述成像面的像元接收的光场，与所述被检测面光场的所述多个微元通过所述干涉检测装置后的未退化波前的关系，所述成像面的像元接收的光场由所述被检测面光场的所述多个微元通过所述干涉检测装置后传播至所述像元的波前叠加； 根据所述第一面形结果和所述表达式，求解获得所述被检测面光场的所述多个微元通过所述干涉检测装置后的未退化波前，根据所述多个微元的未退化波前获得所述被检测元件的被检测面的第二面形结果。

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