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龙图腾网获悉乌斯特技术股份公司申请的专利用于光学表征纺织品样品的设备和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114467018B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980100744.1，技术领域涉及：G01N21/25；该发明授权用于光学表征纺织品样品的设备和方法是由佩曼·H·德库尔迪;K·A·赖恩哈特;大卫·麦卡利斯特设计研发完成，并于2019-11-06向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于光学表征纺织品样品的设备和方法在说明书摘要公布了：一种用于光学表征纺织品样品106的设备100包括展示子系统102，所述展示子系统包括观察窗口108。辐射子系统114包括辐射源120，用于将第一、紫外辐射122和第二、可见辐射123引导向样品106，并使样品106产生荧光辐射124和反射辐射125。感测子系统126包括用于捕获在像素408阵列中的荧光辐射124和反射辐射125的成像器130。控制子系统132包括用于控制展示子系统102、辐射子系统114和感测子系统126的处理器136，并且用于产生包含关于荧光辐射124和反射辐射125的光谱信息和空间信息二者的荧光的和反射的辐射图像400。

本发明授权用于光学表征纺织品样品的设备和方法在权利要求书中公布了：1.一种用于光学表征纺织品样品106的设备100，该设备100包括： 展示子系统102，其包括观察窗口108， 辐射子系统114，其包括辐射源120，用于将在电磁波谱的紫外线范围内所需的第一辐射122和电磁波谱的可见范围内的所需第二辐射123引导通过所述观察窗口108朝向样品106，并使所述样品106产生荧光辐射124和反射辐射125， 感测子系统126，其包括成像器130，用于捕获像素408阵列中的所述荧光辐射124和所述反射辐射125，其中每个像素408记录在像素位置处的所述荧光辐射124和所述反射辐射125二者的强度，以及 控制子系统132，其包括处理器136，用于控制所述展示子系统102、所述辐射子系统114和所述感测子系统126，以及用于产生包含关于样品106的所述荧光辐射124和所述反射辐射125的光谱信息和空间信息两者的荧光的和反射的辐射图像400； 其中， 所述控制子系统132被调适来使用所述荧光的和反射的辐射图像400来实施图案分析， 所述图案分析包括a在亮度图像中找到的图案数量，b在亮度图像中所有图案的总面积，c所有图案的平均大小，d具有水平方向的图案的百分比，e具有垂直方向的图案的百分比，以及f具有无规则或随机方向的图案的百分比。

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