东京毅力科创株式会社滨康孝获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理方法和基板处理系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113192832B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110089464.4，技术领域涉及：H01L21/3065；该发明授权基板处理方法和基板处理系统是由滨康孝;新藤信明;米田滋设计研发完成，并于2021-01-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理方法和基板处理系统在说明书摘要公布了：本发明涉及一种基板处理方法和基板处理系统，能够适当地对离子体处理后的基板进行除电处理。该基板处理方法用于对基板进行处理，包括以下工序：工序a，将所述基板载置在静电吸盘上，并对所述静电吸盘施加直流电压，由此使所述基板吸附于所述静电吸盘；工序b，对电极供给高频电力，并利用非活性气体来生成等离子体；工序c，停止对所述静电吸盘施加所述直流电压；以及工序d，使被供给到所述电极的所述高频电力逐渐降低，并使该高频电力为0W。
本发明授权基板处理方法和基板处理系统在权利要求书中公布了：1.一种基板处理方法，用于对基板进行处理，所述基板处理方法包括以下工序： 工序a，将所述基板载置在静电吸盘上，并对所述静电吸盘施加直流电压，由此使所述基板吸附于所述静电吸盘； 工序b，对电极供给高频电力，并利用非活性气体来生成等离子体； 工序c，停止对所述静电吸盘施加所述直流电压； 工序d，使被供给到所述电极的所述高频电力逐渐降低，并使该高频电力为0W， 在所述工序c与所述工序d之间还包括工序e，在该工序e中，使所述基板上升来使所述基板离开所述静电吸盘。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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