东京毅力科创株式会社高桥信博获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理方法和基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115244661B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180020371.4，技术领域涉及：H01L21/3065；该发明授权基板处理方法和基板处理装置是由高桥信博;清水昭贵;浅田泰生设计研发完成，并于2021-03-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理方法和基板处理装置在说明书摘要公布了：一种基板的处理方法，是交替地层叠有硅层与硅锗层的基板的处理方法，所述基板的处理方法包括以下工序：使用被利用远程等离子体自由基化后的、包含氟和氧的气体，选择性地将所述硅锗层的露出面的表层氧化来形成氧化膜；以及去除所形成的所述氧化膜。
本发明授权基板处理方法和基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板处理方法，是交替地层叠有硅层与硅锗层的基板的处理方法，所述基板处理方法包括以下工序： 向所述基板供给被利用远程等离子体自由基化后的、包含氟和氧的气体，利用所述硅层与所述硅锗层的氧化速度之差来选择性地将所述硅锗层的露出面的表层氧化来形成氧化膜；以及 去除所形成的所述氧化膜， 用于形成所述氧化膜的气体包含O2气体和含氟气体，含氟气体相对于O2气体的体积比率为0.1vol％以上且1.0vol％以下。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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