上海微电子装备(集团)股份有限公司彭俊获国家专利权
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龙图腾网获悉上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利调焦调平装置及光刻机获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115542674B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110739483.7，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权调焦调平装置及光刻机是由彭俊;李道萍;孙建超;王晓庆;陈小娟;庄亚政;徐荣伟设计研发完成，并于2021-06-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本调焦调平装置及光刻机在说明书摘要公布了：本发明提供了一种调焦调平装置及光刻机，投影微镜阵列组件的j个投影微镜组将入射至其上的所述检测光束转换为j个投影光斑并投影成像在基底的表面，探测微镜阵列组件的j个探测微镜组分别将j个探测光斑分光后形成j个第一标记光斑和j个第二标记光斑，投影微镜阵列组件和探测微镜阵列组件空间同步调制，根据需要改变j的大小以及j个所述投影微镜组和j个探测微镜组的位置即可改变投影光斑、第一标记光斑和第二标记光斑的数量和位置，可以减少调焦调平装置测量过程中因基底的表面采用了不同工艺图案和工艺膜系所导致的工艺适应性误差。
本发明授权调焦调平装置及光刻机在权利要求书中公布了：1.一种调焦调平装置，其特征在于，包括沿光路依次设置的： 照明组件，用于发出检测光束； 投影微镜阵列组件，包括i个投影微镜组，j个所述投影微镜组将入射至其上的所述检测光束转换为j个投影光斑并投影成像在基底的表面，j个所述投影光斑被所述基底的表面反射后形成j个探测光斑，其中，0＜j≤i； 探测微镜阵列组件，包括i个探测微镜组，与j个所述投影微镜组对应的j个所述探测微镜组分别将j个所述探测光斑分光后形成j个第一标记光斑和j个第二标记光斑；以及， 探测器组件，包括第一探测器单元和第二探测器单元，所述第一探测器单元和所述第二探测器单元分别用于探测j个所述第一标记光斑的能量和j个所述第二标记光斑的能量。
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