杭州盾源聚芯半导体科技有限公司祝军获国家专利权
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龙图腾网获悉杭州盾源聚芯半导体科技有限公司申请的专利一种真空吸盘治具获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115985831B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211715931.0，技术领域涉及：H01L21/683；该发明授权一种真空吸盘治具是由祝军;祝建敏;张亚博设计研发完成，并于2022-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种真空吸盘治具在说明书摘要公布了：本发明公开了一种真空吸盘治具，包括底盘，所述底盘内设有第一通道，所述第一通道的其中一端连通于所述底盘外；还包括周向活动块，所述周向活动块在所述底盘的周向上与所述底盘滑动连接，所述周向活动块上设有第二通道，所述第二通道的其中一端与所述第一通道的另一端连通；还包括径向活动块，所述径向活动块在所述底盘的径向上与所述周向活动块滑动连接，所述径向活动块内设有第三通道。本发明采用吸盘固定代替粘蜡的固定方式，硅产品与吸盘治具靠真空完成连接固定，只需控制治具与产品接触面的平面度和平行度即可做到硅产品与治具的无缝连接，保证后续加工中的精度。
本发明授权一种真空吸盘治具在权利要求书中公布了：1.一种真空吸盘治具，包括底盘（1），其特征在于，所述底盘（1）内设有第一通道，所述第一通道的其中一端连通于所述底盘（1）外；还包括周向活动块（2），所述周向活动块（2）在所述底盘（1）的周向上与所述底盘（1）滑动连接，所述周向活动块（2）上设有第二通道，所述第二通道的其中一端与所述第一通道的另一端连通；还包括径向活动块（3），所述径向活动块（3）在所述底盘（1）的径向上与所述周向活动块（2）滑动连接；所述径向活动块（3）内设有第三通道，所述第三通道的其中一端与所述第二通道的另一端连通，所述径向活动块（3）的上端设有用于吸附硅产品的吸口（32），所述吸口（32）连通于所述第三通道的另一端。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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