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龙图腾网获悉北京航空航天大学申请的专利可控型喷雾液滴高效冷却换热实验平台获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116618111B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310850351.0，技术领域涉及：B01L9/02；该发明授权可控型喷雾液滴高效冷却换热实验平台是由高轩;李雨航;李海旺;陶智;撖天宇;高旭设计研发完成，并于2023-07-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本可控型喷雾液滴高效冷却换热实验平台在说明书摘要公布了：本发明公开了可控型喷雾液滴高效冷却换热实验平台，包括液滴发生装置，多组压电式液滴发生器可实现液滴串阵列；位于压电式液滴发生器工艺下游端的薄膜加热器，薄膜加热器采用磁控溅射工艺制备，所述薄膜加热器以500μm后的双抛硅片为基材，并在基材上以磁控溅射工艺磁控溅射金属铂膜；以及光学成像及测温系统。本发明的实验平台基于多组压电式液滴发生器而设计，从温场流场都可以进行捕捉和精准测量，先进的液滴发生器实现了现有单组液滴所不具备的液滴流量同时还可以兼顾精度和调控性，通过设计的微芯片薄膜加热器减小了电阻误差和实验误差，热损低于1％，该实验平台对于探究液滴物理场以及连续液滴高效换热领域有重要影响。

本发明授权可控型喷雾液滴高效冷却换热实验平台在权利要求书中公布了：1.可控型喷雾液滴高效冷却换热实验平台，其特征在于，该实验平台包括： 液滴发生装置，所述液滴发生装置包括恒温水浴箱（1）、以及与该恒温水浴箱（1）连通的压电式液滴发生器（4），多个所述压电式液滴发生器（4）阵列排布； 位于所述压电式液滴发生器（4）工艺下游端的薄膜加热器（9），所述薄膜加热器（9）采用磁控溅射工艺制备，所述薄膜加热器（9）以500μm厚的双抛硅片为基材，并在基材上以磁控溅射工艺磁控溅射金属铂膜；以及 光学成像及测温系统； 所述光学成像及测温系统通过红外照相机（11）采集薄膜加热器（9）的温度数据，并将采集的照片传输至计算机（15）得出时间平均温场，通过Matlab代码进行时间平均温场后处理以得到温场云图； 所述薄膜加热器（9）的磁控溅射加热层的工艺流程主要包括以下步骤： S101、切割出尺寸为14mm*14mm的双抛硅片，将上下两边用棕膜进行掩膜，形成为14mm*10mm的金属溅射区域； S102、开启冷却水，将腔室大门锁扣倒置，然后开启放气阀放气，开启流量计面板通道“ON”，开启导气阀并清洗导气管，等待真空抽到5.0*101pa后，打开电磁阀，打开挡板控制器，等到真空抽到1.9*101pa后运行分子泵，待分子泵面板显示转速后关闭粗抽阀，开高阀到最大位置，真空普遍抽到5.0*10-3pa或3.0*10-3pa开始镀膜实验； S103、开启转盘，首先要镀金属铬薄膜，开启热控制器设置80℃的基板温度，铬金属靶材直径为10cm，溅射气压设置为0.2pa，在对应的靶上部安装磁控溅射电源，开启磁控溅射电源，保持挡板关闭，通过旋钮调节功率值，进行预溅射，功率值设置为200-400w以采用高功率溅射，溅射时间为50-120s，在硅片上得到50nm以下厚的铬膜为连接层； S104、铬膜为连接铂层和半导体硅的关键结合膜，在完成铬膜沉积后溅射气压不变，基板温度不变，功率改为150-300w，溅射铂层时间为90s，完成后用四探针测量法测得电阻为7Ωcm2，测量值同批电阻值误差在0.05Ω以内； S105、将双抛硅片再次进行掩膜，掩膜遮住中心铂层区域10mm*10mm，进行S103步骤进行磁控溅射金薄膜，溅射气压设置为0.3pa，功率设置为50-150w，时间为10min，薄膜厚度为500nm； 所述薄膜加热器（9）具有PCB电路板（16）； 所述PCB电路板（16）整体尺寸为1.8cm*1.8cm，且所述PCB电路板（16）中间采用V型切割以形成尺寸为1.3cm*1.3cm的切割槽； 所述PCB电路板（16）具有四条长方形pad（1601），两条靠近所述PCB电路板（16）外侧的所述pad（1601）的宽度为500μm，两条靠近所述PCB电路板（16）内侧的所述pad（1601）的宽度为200μm，所述pad（1601）覆铜厚度为1oz以上； 所述PCB电路板（16）和磁控溅射加热层的焊接封装工艺为： 将PCB电路板（16）先与磁控溅射加热层用导电银胶粘结，然后采用金线键合工艺进行磁控溅射加热层与PCB的封装，两边各通过多根25μm金线进行封装。

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