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龙图腾网获悉西安立芯光电科技有限公司申请的专利一种用于薄膜沉积治具的清洁方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117046785B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311021410.X，技术领域涉及：B08B3/02；该发明授权一种用于薄膜沉积治具的清洁方法是由任占强;赵小亮;崔彬;刘乾;李青民;李喜荣;刘双涛设计研发完成，并于2023-08-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于薄膜沉积治具的清洁方法在说明书摘要公布了：本发明属于真空沉积设备维修技术领域，涉及一种用于薄膜沉积治具的清洁方法，使用用于薄膜沉积治具的清洁装置，所述清洁装置包括真空腔体、清洁台、机械泵、分子泵、真空阀、清洁气贮罐、干燥气贮罐，真空腔体内设置清洁台，清洁台用于放置待清洁的薄膜沉积治具。包括放置待清洁的薄膜沉积治具、真空腔体抽真空、薄膜沉积治具清洁的步骤。本发明利用薄膜沉积治具与附着的薄膜之间存在应力的现象，当真空腔体达到一定的真空度后，通入清洁气体，达到附着的薄膜开裂条件，附着的薄膜脱落，达到薄膜沉积治具清洁的效果，避免了薄膜沉积治具的损伤及尺寸变化。

本发明授权一种用于薄膜沉积治具的清洁方法在权利要求书中公布了：1.一种用于薄膜沉积治具的清洁方法，使用用于薄膜沉积治具的清洁装置；所述清洁装置包括真空腔体1、清洁台2、机械泵3、分子泵4、真空阀5、清洁气贮罐7、干燥气贮罐8； 所述真空腔体1内设置清洁台2，所述清洁台2用于放置待清洁的薄膜沉积治具； 所述分子泵4、所述清洁气贮罐7、所述干燥气贮罐8分别与所述真空腔体1连通，所述机械泵3分别通过所述真空阀5与所述分子泵4、所述真空腔体1连通； 其特征在于，包括如下步骤： 步骤1，放置待清洁的薄膜沉积治具： 打开清洁装置的真空腔体1，将待清洁的薄膜沉积治具放置在清洁台2上，关闭真空腔体1； 步骤2，真空腔体抽真空： 第一步，启动清洁装置，开启机械泵3，机械泵3开始对真空腔体1抽真空，至真空腔体1真空度恒定，关闭机械泵； 第二步，打开干燥气贮罐8，干燥气体通入真空腔体1，至真空腔室1压力为1个大气压时，关闭干燥气贮罐8，开启机械泵3； 第三步，机械泵3对真空腔体1抽真空，至真空腔体1的真空度10-3Torr时，开启分子泵4，至真空腔体1真空度恒定，关闭分子泵4，关闭机械泵3； 第四步，打开干燥气贮罐8，真空腔体1通入干燥气体，至真空腔体1达到1个大气压时，关闭干燥气贮罐8，开启机械泵3，至真空腔体1真空度10-3Torr，开启分子泵，至真空腔体1真空度为1×10-6～1×10-7Torr，关闭分子泵4，关闭机械泵3； 步骤3，薄膜沉积治具清洁： 打开清洁气贮罐7，清洁气体通入真空腔体1，至真空腔体1气压为1×10-3～1×10-5Torr，保持恒定气压，至薄膜沉积治具上附着的膜层脱落。

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