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龙图腾网获悉中国人民解放军军事科学院国防科技创新研究院申请的专利基于太赫兹高光谱成像的痕量物质检测方法和系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117054369B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311049463.2，技术领域涉及：G01N21/3586；该发明授权基于太赫兹高光谱成像的痕量物质检测方法和系统是由王日德;常超;阮浩;王佳艺;张晓宝;杨霄;娄菁;刘晓宇;江润东设计研发完成，并于2023-08-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于太赫兹高光谱成像的痕量物质检测方法和系统在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于太赫兹高光谱成像的痕量物质检测方法和系统，涉及痕量物质检测领域，包括：通过超构表面局域光场提高光场与待测样品的相互作用的效率；通过太赫兹高光谱成像技术采集样品的高光谱图像数据；利用特征提取算法提取光谱数据中的特征信息；通过建立基于特征信息的模型进行定量分析，并得出痕量物质的浓度、成分等信息。使用太赫兹高光谱成像技术进行检测，具有高灵敏度、无损检测等特点，可以对痕量物质进行快速、准确、定量的检测。此外，该方法不需要对样品进行处理，对样品在传感器表面的制备工艺要求低，避免了样品污染、检测误差以及痕量样品在结构表面由于分布不均导致的误差。

本发明授权基于太赫兹高光谱成像的痕量物质检测方法和系统在权利要求书中公布了：1.一种基于太赫兹高光谱成像的痕量物质检测方法，其特征在于，包括： 通过紫外光刻和磁控溅射将金属超构表面加工在石英、硅或有机高分子衬底表面制成超表面结构，所述超表面结构用于提高光场与待测样品的相互作用的效率； 将超表面结构放置于水平二维平移台上，将太赫兹信号以倾斜10°的方向辐射到所述超表面结构上，经过超表面反射，对反射信号进行收集，扫描二维平移台，对每次移动后的位置对应的超表面进行光谱收集和成像；对超表面单元结构的谐振响应进行分析，并将其作为参考信号； 在相同的条件参数下，将预处理后的痕量待检样品转移到所述超表面结构表面并置于样品台上，在二维平面上平移所述样品台，对每次移动后的位置对应的所述待检样品表面进行成像和光谱收集； 利用特征提取算法提取光谱数据中的特征信息； 建立所述待检样品在所述超表面结构上的二维分布信息和超表面结构的电磁响应特性谱线； 所述建立所述待检样品在所述超表面结构上的二维分布信息和超表面结构的电磁响应特性谱线的步骤具体包括： 分析所述超表面结构的单元结构，根据各位置生成的成像图形，提取各位置处的太赫兹光谱信息，分析放物质前后共振单元谐振频率漂移量； 对扫描的各个位置处得到的频率漂移量进行求和，接着除以成像面积，获得一条平均光谱信号，每条光谱包含2048个点； 对不同痕量的物质重复如上操作，建立频率漂移与痕量物质的量之间的对应关系； 通过建立基于所述特征信息的模型进行定量分析，得出所述待检样品的浓度信息和或成分信息。

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