西南大学;深圳森丰真空镀膜有限公司李凤吉获国家专利权
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龙图腾网获悉西南大学;深圳森丰真空镀膜有限公司申请的专利一种可减弱蓝光的透明硬质涂层及制备工艺获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN117721428B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202311783087.X,技术领域涉及:C23C14/35;该发明授权一种可减弱蓝光的透明硬质涂层及制备工艺是由李凤吉;白瑞珊;哈斯巴根;陆科宇;张存修;赵明华;汪达文设计研发完成,并于2023-12-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种可减弱蓝光的透明硬质涂层及制备工艺在说明书摘要公布了:本发明涉及表面涂层技术领域,具体公开了一种可减弱蓝光的透明硬质涂层及制备工艺,采用反应磁控溅射技术,在基底表面沉积单层结构的透明硬质涂层,利用元素掺杂与薄膜干涉原理,能够实现良好的减弱蓝光透过率的效果,操作简单,制备得到的涂层具有高的硬度,提高了涂层的耐磨性,同时,通过调控磁控溅射的工艺参数,能够精确调整SiN和AlN之比,进而调整涂层对不同波长蓝光及其余可见光的透过率,可控性强,尤其降低了短波段有害蓝光的透过率,保护视力,而长波段的有益蓝光则能够更多的穿透涂层,并且对其余可见光具有良好的透过率,有利于显色的清晰度和真实性。
本发明授权一种可减弱蓝光的透明硬质涂层及制备工艺在权利要求书中公布了:1.一种可减弱蓝光的透明硬质涂层的制备工艺,其特征在于,包括以下制备步骤:将基底置于磁控溅射系统的腔室中,抽真空后通入氩气和氮气,开启铝靶和硅靶的电源进行共沉积,制备得到透明硬质涂层,其中,所述铝靶的射频溅射功率为280-320W,所述硅靶的直流溅射功率为28-55W,所述氩气的流量为20-60sccm,所述氮气的流量为3-10sccm,溅射的时间为50~100min。
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