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武汉理工大学王献忠获国家专利权

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龙图腾网获悉武汉理工大学申请的专利一种带隙声子晶体设计方法、装置、电子设备及存储介质获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN118862583B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411072485.5,技术领域涉及:G06F30/23;该发明授权一种带隙声子晶体设计方法、装置、电子设备及存储介质是由王献忠;齐文超;詹必鑫;邵岳川;何俊泽;魏佳杰设计研发完成,并于2024-08-06向国家知识产权局提交的专利申请。

一种带隙声子晶体设计方法、装置、电子设备及存储介质在说明书摘要公布了:本申请公开了一种带隙声子晶体设计方法、装置、电子设备及存储介质,属于声子晶体设计技术领域,其方法包括:获取带隙声子晶体,并生成带隙声子晶体的带隙向量;构建带隙声子晶体的结构与带隙向量的映射关系模型,并基于映射关系模型和预期带隙向量确定预期带隙声子晶体的结构;构建带隙声子晶体的结构与隐变量的图像关系模型,并基于图像关系模型和预期带隙声子晶体的结构确定预期隐变量,根据预期隐变量生成预期声子晶体的图像特征;根据预期带隙声子晶体的结构和预期声子晶体的图像特征生成目标声子晶体。本发明根据声子晶体结构与带隙向量的映射关系以及隐变量构建声子晶体设计模型,能够灵活准确地生成目标频率段内带隙的声子晶体。

本发明授权一种带隙声子晶体设计方法、装置、电子设备及存储介质在权利要求书中公布了:1.一种带隙声子晶体设计方法,其特征在于,包括: 获取带隙声子晶体,并生成带隙声子晶体的带隙向量,所述带隙向量包括带隙宽度和位置; 构建带隙声子晶体的结构与带隙向量的映射关系模型,并基于所述映射关系模型和预期带隙向量确定预期带隙声子晶体的结构; 基于编码器和解码器,构建初始自编码器模型; 根据编码器提取训练样本的带隙声子晶体结构的第一图像特征; 将所述第一图像特征映射为隐变量; 基于解码器,根据所述隐变量与训练样本带隙声子晶体结构重构图像特征,生成第二图像特征; 根据所述第一图像特征和第二图像特征的对比结果,更新迭代初始自编码器模型,生成带隙声子晶体的结构与隐变量的图像关系模型; 基于所述图像关系模型,根据所述预期带隙声子晶体的结构确定其对应的隐变量; 根据所述隐变量与带隙声子晶体的结构映射关系,生成预期声子晶体的图像特征; 根据所述预期带隙声子晶体的结构和预期声子晶体的图像特征生成目标声子晶体。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人武汉理工大学,其通讯地址为:430070 湖北省武汉市洪山区珞狮路122号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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