北京北方华创微电子装备有限公司刘东亮获国家专利权
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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利遮蔽盘组件检测方法和半导体工艺设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119245505B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411240004.7，技术领域涉及：G01B11/00；该发明授权遮蔽盘组件检测方法和半导体工艺设备是由刘东亮设计研发完成，并于2024-09-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本遮蔽盘组件检测方法和半导体工艺设备在说明书摘要公布了：本发明提供了遮蔽盘组件检测方法和半导体工艺设备，涉及半导体工艺技术领域，以解决遮蔽盘是否被放入遮蔽盘库中难以检测的问题。遮蔽盘组件检测方法获取遮蔽盘组件的图像；基于图像，获取支撑臂上支撑点的位置；和或，基于图像，获取遮蔽盘本体中心点的位置，支撑点用于支撑遮蔽盘本体的中心点；基于支撑点的位置与第一预设位置之间的第一偏差，遮蔽盘本体中心的位置与第二预设位置的第二偏差，和或支撑点的位置与遮蔽盘本体的中心点的位置之间的第三偏差，确认支撑臂是否处于安全位置，遮蔽盘本体是否处于安全位置，和或遮蔽盘本体相对于支撑臂是否发生位移。其可以提高对遮蔽盘是否放入遮蔽盘库检测的便利性。
本发明授权遮蔽盘组件检测方法和半导体工艺设备在权利要求书中公布了：1.一种遮蔽盘组件检测方法，应用于半导体工艺腔室，其特征在于，所述遮蔽盘组件包括支撑臂（220）和遮蔽盘本体（210），所述支撑臂（220）的厚度大于所述遮蔽盘本体（210），所述检测方法包括： 在支撑臂（220）将遮蔽盘本体（210）运输至遮蔽盘库（130）时，从下方获取所述遮蔽盘组件的图像，所述图像包含支撑臂（220）的部分边缘； 基于所述图像，获取所述支撑臂（220）上支撑点的位置；基于所述图像，获取所述遮蔽盘本体（210）中心点的位置，所述支撑点用于支撑所述遮蔽盘本体（210）的中心点； 基于所述支撑点的位置与第一预设位置之间的第一偏差，和所述支撑点的位置与所述遮蔽盘本体（210）的中心点的位置之间的第三偏差，确认所述支撑臂（220）是否处于安全位置，和所述遮蔽盘本体（210）相对于支撑臂（220）是否发生位移。
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