苏州易芯半导体有限公司顾杨获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州易芯半导体有限公司申请的专利一种防串扰发光单元及其制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120344065B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510814048.4，技术领域涉及：H10H29/01；该发明授权一种防串扰发光单元及其制作方法是由顾杨;翟峰;周露;唐彪设计研发完成，并于2025-06-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种防串扰发光单元及其制作方法在说明书摘要公布了：本发明涉及半导体显示装置技术领域，具体涉及一种防串扰发光单元及其制作方法，在基板上从下至上依次制作色过滤层、色转换层、无机层、芯片键合层、微发光二极管层和反射层；在反射层表面制作不连续的填平层；对基板进行研磨减薄、切割和劈裂操作，形成独立的分立器件。通过设置覆盖封装结构的反射层以及不连续的芯片键合层，量子点和微发光二极管发出的光均被反射层反射，避免显示单元之间光串扰，反射光再次激发量子点发出光，提高光效。芯片键合层和填平层均为不连续设置，避免大尺寸制作时，温度升降引起的基板翘曲。在进行切割和劈裂时，能够减少激光的工艺次数，提升量产效率，去掉有机层能够极大地避免芯片双胞问题的出现。
本发明授权一种防串扰发光单元及其制作方法在权利要求书中公布了：1.一种防串扰发光单元的制作方法，其特征在于，包括： 在基板上从下至上依次制作色过滤层和色转换层； 在色过滤层未被遮盖的表面及色转换层的表面和侧面制作连续的无机层； 在无机层上制作不连续的芯片键合层； 在芯片键合层上转移制作蓝色微发光二极管层；微发光二极管层的正投影面积不大于芯片键合层； 在无机层未被遮盖的表面和侧面、芯片键合层露出的表面和侧面以及微发光二极管层外露的表面和侧面上制作反射层；在反射层表面制作不连续的填平层； 其中，微发光二极管层的电极部分露出填平层，以便制作拓展电极，微发光二极管层露出的表面除了用于制作拓展电极的区域外，均被反射层覆盖，且反射层设置在拓展电极之下； 对基板进行包括研磨减薄、激光切割和劈裂的操作，形成独立的分立器件。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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