株式会社国际电气齐藤择弥获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社国际电气申请的专利基板冷却单元、基板处理装置、半导体器件的制造方法、记录介质及基板处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113966547B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080042909.7，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权基板冷却单元、基板处理装置、半导体器件的制造方法、记录介质及基板处理方法是由齐藤择弥;高桥哲;桧山真设计研发完成，并于2020-09-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板冷却单元、基板处理装置、半导体器件的制造方法、记录介质及基板处理方法在说明书摘要公布了：提供一种技术，具备：基板保持机构，其水平地保持基板；驱动部，其使基板保持机构升降；冷却板，其具有与基板的面相对的相对面；激光射出部，其设在基板升降的空间的侧方的一端，射出在基板保持机构升降的方向具有宽度地分布、且与基板的面平行的激光；激光受光部，其设在空间的侧方的另一端，获取受光位置确定信息，其中该受光位置确定信息表示基板保持机构升降的方向上的、接受从激光射出部射出的激光的位置；和计算部，其基于在激光受光部中获取到的受光位置确定信息，计算出冷却板与基板之间的距离。
本发明授权基板冷却单元、基板处理装置、半导体器件的制造方法、记录介质及基板处理方法在权利要求书中公布了：1.一种基板冷却单元，具备： 基板保持机构，其水平地保持基板； 驱动部，其使所述基板保持机构升降； 冷却板，其具有与由所述基板保持机构保持的所述基板的面相对的相对面，且在内部设有供制冷剂流动的制冷剂流路； 激光射出部，其设在由所述基板保持机构保持的所述基板升降的空间的侧方的一端，射出在所述基板保持机构升降的方向具有宽度地分布、且与由所述基板保持机构保持的所述基板的面平行的激光； 激光受光部，其设在所述空间的侧方的另一端，获取受光位置确定信息，其中该受光位置确定信息表示所述基板保持机构升降的方向上的、接受从所述激光射出部射出的激光的位置；和 计算部，其基于在所述激光受光部中获取到的所述受光位置确定信息，计算出所述冷却板的所述相对面与由所述基板保持机构保持的所述基板的相对于所述冷却板的相对面之间的距离。
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