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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理装置和基板处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112786485B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011147776.8，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权基板处理装置和基板处理方法是由小佐井一树;篠原和义设计研发完成，并于2020-10-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本基板处理装置和基板处理方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。提供一种能够抑制在对基板处理部进行了清洗处理之后液处理的性能恶化的技术。本公开的一形态的基板处理装置具备基板处理部、排液部以及控制部。基板处理部从处理液供给部向所载置的基板供给处理液而进行液处理。排液部具有与积存处理液的积存部连接的回收路径，对液处理使用后的处理液进行排液。控制部执行液处理的处理制程以及清洗基板处理部和排液部的清洗制程。另外，作为清洗制程，控制部在执行了从清洗液供给部供给清洗液而清洗基板处理部和排液部的清洗动作之后，执行从处理液供给部供给处理液而将附着于基板处理部和排液部的清洗液置换成处理液的恢复动作。

本发明授权基板处理装置和基板处理方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，其中， 该基板处理装置具备： 基板处理部，其从处理液供给部向所载置的基板供给处理液而进行液处理； 排液部，其具有与积存所述处理液的积存部连接的回收路径，对所述液处理使用后的所述处理液进行排液；以及 控制部，其执行所述液处理的处理制程以及清洗所述基板处理部和所述排液部的清洗制程， 作为所述清洗制程，所述控制部在执行了从清洗液供给部供给清洗液而清洗所述基板处理部和所述排液部的清洗动作之后，执行从所述处理液供给部供给所述处理液而将附着于所述基板处理部和所述排液部的所述清洗液置换成所述处理液的恢复动作， 所述排液部在与所述基板处理部连接的排液路径具有检测所述处理液的浓度的浓度传感器，所述排液路径经由所述浓度传感器与切换阀连接，所述切换阀能够将在所述排液路径中流动的排液的排出路径在所述回收路径和使所述处理液向外部排出的排放部之间进行切换，所述控制部在执行所述清洗制程的期间使向所述排液部流动的排液从所述排放部向外部排出，并且基于由所述浓度传感器检测的所述处理液的浓度将所述切换阀从所述排放部切换为所述回收路径，从而结束所述恢复动作。

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