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龙图腾网获悉暨南大学申请的专利用于1053nm波段的偏振无关的高效宽带金属介电双层光栅获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116184545B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111420982.6，技术领域涉及：G02B5/18；该发明授权用于1053nm波段的偏振无关的高效宽带金属介电双层光栅是由周常河;金戈设计研发完成，并于2021-11-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于1053nm波段的偏振无关的高效宽带金属介电双层光栅在说明书摘要公布了：本发明公开了一种用于1053nm波段的偏振无关的高效宽带金属介电双层光栅，由上至下分别是：由两层高折射率介质层组成的光栅脊、光栅匹配层、金属反射镜和光栅基底，金属介电双层光栅的任意层均为长方体结构。该介电双层光栅的周期为：700‑750nm，占空比为：0.4‑0.48。金属反射镜的厚度大于金属的趋肤深度。当TE或者TM偏振光以利特罗角入射时，其‑1级平均衍射效率在1000‑1100nm波段超过98％，且偏振相关损耗在整个波段上的平均值为0.016dB。本发明可以由电子束直写装置与微电子深刻蚀加工而成，结构简易，容差大，适合大规模制造，可适用于光谱合束和脉冲压缩系统。

本发明授权用于1053nm波段的偏振无关的高效宽带金属介电双层光栅在权利要求书中公布了：1.一种用于1053nm波段的偏振无关的高效宽带的金属介电双层光栅，其特征在于，所述金属介电双层光栅由上至下分别是：由两层高折射率介质层组成的光栅脊、光栅匹配层、金属反射镜和光栅基底，其中，金属介电双层光栅的任意层均为长方体结构；所述光栅脊为由上至下设置的光栅第一层和光栅第二层； 所述金属介电双层光栅的周期为727.6nm，金属介电双层光栅的入射角为利特罗角，利特罗角为46.35°；光栅第一层为厚度h1=225.7nm、折射率n1=2.29的ZnS层，光栅第二层为厚度h2=132.3nm、折射率n2=3.56的Si层，光栅匹配层为厚度h3=264.6nm、折射率n3=1.45的SiO2，金属反射镜为银材料，金属反射镜的厚度为200nm； 在利特罗角入射下，TE偏振光和TM偏振光的-1级衍射效率在1000nm-1100nm均大于97%，TE偏振光和TM偏振光的-1级衍射效率在1008nm-1092nm均大于98%，TE偏振光和TM偏振光的-1级衍射效率在1028nm-1068nm均大于99%。

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