上海普达特设备科技有限公司;上海普达特半导体设备有限公司张国才获国家专利权
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龙图腾网获悉上海普达特设备科技有限公司;上海普达特半导体设备有限公司申请的专利用于金属电化学沉积的阴极装置及电化学反应系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223255509U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422028254.6，技术领域涉及：C25D17/12；该实用新型用于金属电化学沉积的阴极装置及电化学反应系统是由张国才;严必明;周靖上设计研发完成，并于2024-08-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于金属电化学沉积的阴极装置及电化学反应系统在说明书摘要公布了：本申请提供一种用于金属电化学沉积的阴极装置及电化学反应系统，其中，阴极装置包括位于在电化学反应系统内的保护槽以及位于保护槽内的阴极导电件和至少一个清理组件；至少一个清理组件位于阴极导电件的第一侧；清理组件与阴极导电件软接触。通过清理组件清洁阴极导电件表面的药液，清理组件阴极导电件之间的软接触不会损伤阴极导电件，且清理组件设置在第一侧能够提高清理效率，提升了阴极导电件的清洁效果和使用寿命。同时，本申请还提供一种电化学反应系统，包括前述的阴极装置，通过清理组件进行清洁，延长了阴极装置的使用寿命，有利于达到更好的镀膜效果。
本实用新型用于金属电化学沉积的阴极装置及电化学反应系统在权利要求书中公布了：1.一种用于金属电化学沉积的阴极装置，其特征在于，包括保护槽以及设置于所述保护槽内的阴极导电件和至少一个清理组件，所述保护槽应用时设置于电化学反应系统的反应槽内； 所述阴极导电件转动接触待沉积件；所述阴极导电件包括转动远离所述待沉积件的第一侧和转动接近所述待沉积件的第二侧；至少一个所述清理组件位于所述阴极导电件的第一侧； 所述清理组件与所述阴极导电件软接触。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人上海普达特设备科技有限公司;上海普达特半导体设备有限公司，其通讯地址为：200120 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区浦东南路855号世界广场23楼C、D座；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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