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龙图腾网获悉同济大学申请的专利一种高衍射效率的直接溯源型光栅制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119105121B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411227540.3，技术领域涉及：G02B5/18；该发明授权一种高衍射效率的直接溯源型光栅制备方法是由程鑫彬;邓晓;肖光旭;薛栋柏;李同保;林子超;唐朝辉;沈俊宇;尹志珺;周通设计研发完成，并于2024-09-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种高衍射效率的直接溯源型光栅制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种高衍射效率的直接溯源型光栅制备方法，属于高精密光栅制造领域，包括以下步骤：1基于高温热蒸发法在真空中产生中性原子束；2采用激光多普勒冷却降低中性原子束横向运动速度；3利用激光驻波场对原子束进行会聚，并使其垂直沉积到基板上并形成直接溯源型光栅结构；4在直接溯源型光栅表面利用热蒸发法依次蒸镀金属膜与保护膜，获得高衍射效率的直接溯源型光栅标准样板。本发明提供了一种高衍射效率的直接溯源型光栅制备方法，能够显著提高直接溯源型光栅的衍射效率，操作简单，同时能够不破坏直接溯源型光栅的自溯源性。

本发明授权一种高衍射效率的直接溯源型光栅制备方法在权利要求书中公布了：1.一种高衍射效率的直接溯源型光栅制备方法，其特征在于，包括以下步骤： S1、基于高温热蒸发法在真空中产生中性原子束； S2、采用激光多普勒冷却降低中性原子束横向运动速度； S3、利用激光驻波场对原子束进行会聚，并使其垂直沉积到基板上形成直接溯源型光栅结构； S4、在直接溯源型光栅表面利用热蒸发法依次蒸镀金属膜与保护膜，获得高衍射效率的直接溯源型光栅标准样板； 步骤S1具体为：将直接溯源型光栅制备材料放入高温蒸发源坩埚中，真空腔抽至高真空条件，在距离坩埚一定距离处放置一小孔作为预准直孔，经过预准直孔可形成具有一定发散角的中性原子束； 步骤S1中，高温蒸发源的温度稳定性控制在±0.1％，蒸发室的真空度优于2E-6pa； 步骤S2具体为：利用与原子跃迁频率有一定失谐量的激光垂直作用在中性原子束的运动方向上，而后经过反射镜原路返回，将中性原子束的横向速度冷却至极限，减小原子束的横向速度；激光的失谐量控制在原子跃迁频率自然线宽一半，同时调节两束冷却光与原子束正交； 步骤S3具体为：利用与原子跃迁频率有一定失谐量的激光束，经过凸透镜会聚得到会聚沉积光，再经过反射镜原路返回形成稳定的激光驻波场，对该中性原子束进行周期性调控，形成能够溯源至原子跃迁频率的直接溯源型光栅结构； 步骤S3中，激光束的激光频率相对原子跃迁频率正或负失谐时，激光束沉积在激光驻波场的波节或波腹位置，且沉积激光波长的频率稳定性要维持在100kHz量级以内，同时激光的方向与中性原子束严格正交； 步骤S4中，金属膜材料为银、铝或金，保护膜为氟化镁或硅的衍生材料，金属膜厚度为直接溯源型光栅峰谷高度的一半，保护膜厚度为直接溯源型光栅峰谷高度的四分之一。

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