北京北方华创微电子装备有限公司王海阔获国家专利权
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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利半导体清洗设备及其卡盘结构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223260573U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422320537.8，技术领域涉及：H01L21/683；该实用新型半导体清洗设备及其卡盘结构是由王海阔;努尔夏提奴尔东设计研发完成，并于2024-09-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体清洗设备及其卡盘结构在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种半导体清洗设备及其卡盘结构，包括用于承载晶圆的卡盘基体，在卡盘基体中设置有进气通道，进气通道在卡盘基体的与晶圆相对的第一表面上具有多个出气口，用于通过吹出的气体承载晶圆；第一表面上设置有第一环形凸台，第一环形凸台的上表面高于气体所承载的晶圆下表面，第一环形凸台的内径大于晶圆的直径，且第一环形凸台的内周面与晶圆的边缘之间形成有第一导流通道。本方案可以减小晶圆下表面膜层的腐蚀区域，满足先进工艺要求。
本实用新型半导体清洗设备及其卡盘结构在权利要求书中公布了：1.一种半导体清洗设备的卡盘结构，包括用于承载晶圆的卡盘基体，其特征在于，在所述卡盘基体中设置有进气通道，所述进气通道在所述卡盘基体的与所述晶圆相对的第一表面上具有多个出气口，用于通过吹出的气体承载晶圆； 所述第一表面上设置有第一环形凸台，所述第一环形凸台的上表面高于所述气体所承载的晶圆下表面，所述第一环形凸台的内径大于所述晶圆的直径，且所述第一环形凸台的内周面与所述晶圆的边缘之间形成有第一导流通道。
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