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龙图腾网获悉深圳若隅科技有限公司申请的专利等离子体增强原子层沉积设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119144944B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411330698.3，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权等离子体增强原子层沉积设备是由朱雨设计研发完成，并于2024-09-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本等离子体增强原子层沉积设备在说明书摘要公布了：本发明涉及一种等离子体增强原子层沉积设备，包括等离子发生装置以及粉体处理装置，等离子发生装置设有等离子发生腔，粉体处理装置与所述等离子发生装置连接，所述粉体处理装置内形成有反应腔以及分别与所述反应腔连通的进气孔、等离子进入孔、排气孔，所述等离子进入孔与所述等离子发生腔连通，其中，所述进气孔用于通入第一工艺气体，所述等离子进入孔用于通入等离子体。本发明的等离子体增强原子层沉积设备的进气孔和等离子进入孔均是独立连通至反应腔，使第一工艺气体在通入至反应腔时无需经过等离子发生腔，以避免第一工艺气体被电离，能够选择同时向反应腔通入第一工艺气体和等离子体的工艺，以满足粉体处理工艺的多样需求。

本发明授权等离子体增强原子层沉积设备在权利要求书中公布了：1.一种等离子体增强原子层沉积设备，其特征在于，包括： 等离子发生装置，设有等离子发生腔；以及， 粉体处理装置，与所述等离子发生装置连接，所述粉体处理装置内形成有反应腔以及分别与所述反应腔连通的进气孔、等离子进入孔、排气孔，所述等离子进入孔与所述等离子发生腔连通； 其中，所述进气孔用于通入第一工艺气体，所述等离子进入孔用于通入等离子体； 所述粉体处理装置包括： 外壳，与所述等离子发生装置连接，所述外壳内形成有相互密封的排气腔和进气腔，所述外壳设有与所述排气腔连通的抽气孔，所述外壳设有与所述进气腔连通的第一注气孔和所述进气孔，所述外壳设有所述等离子进入孔； 电机，连接于所述外壳，所述电机具有输出轴；以及， 粉体处理组件，设于所述外壳内，所述粉体处理组件内形成有所述反应腔，所述粉体处理组件形成有所述反应腔的部分位于所述进气腔内，所述粉体处理组件一端与所述电机的输出轴连接，所述粉体处理组件另一端与所述外壳可转动连接，所述粉体处理组件设有所述排气孔，所述排气孔连通所述反应腔与所述排气腔； 所述等离子发生装置包括： 微波源，设有微波谐振腔，所述微波谐振腔内设有天线； 介质管，设有所述等离子发生腔及与所述等离子发生腔连通的第二注气孔，所述介质管具有封闭端和开口端，所述介质管的封闭端伸入所述微波谐振腔；以及， 连接座，一端与所述介质管的开口端连接，另一端与所述粉体处理装置连接，所述连接座设有连通所述等离子发生腔和所述等离子进入孔的连接孔。

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