深圳市新凯来工业机器有限公司关晓燕获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市新凯来工业机器有限公司申请的专利半导体刻蚀设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223260558U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422475669.8，技术领域涉及：H01L21/67；该实用新型半导体刻蚀设备是由关晓燕;王乔慈;赵军设计研发完成，并于2024-10-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体刻蚀设备在说明书摘要公布了：本申请实施例提供一种半导体刻蚀设备，涉及半导体技术领域，解决刻蚀性能较差的问题。该半导体刻蚀设备包括第一电极、第二电极、背板，以及等离子体调节装置，第一电极和第二电极沿第一方向相对设置，第二电极背离第一电极的一侧设置有背板，第一电极上承载有待处理基片。等离子体调节装置包括调整环、驱动组件，以及密封组件，调整环套设在第二电极的外侧，并与驱动组件传动连接，驱动组件驱动调整环相对背板沿第一方向移动，密封组件设置在调整环与背板之间。通过调整调整环的位置，可以调整等离子体的分布，进而调整各膜层的刻蚀均匀性、等离子体边缘刻蚀行为，以及改善待处理基片边缘的刻蚀形貌偏移。
本实用新型半导体刻蚀设备在权利要求书中公布了：1.一种半导体刻蚀设备，其特征在于，包括：第一电极、第二电极、背板，以及等离子体调节装置，所述第一电极和所述第二电极沿第一方向相对设置，所述第二电极背离所述第一电极的一侧设置有所述背板，所述第一电极上承载有待处理基片； 所述等离子体调节装置包括调整环、驱动组件，以及密封组件，所述调整环套设在所述第二电极的外侧，并与所述驱动组件传动连接，所述驱动组件驱动所述调整环相对所述背板沿所述第一方向移动，所述密封组件设置在所述调整环与所述背板之间。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人深圳市新凯来工业机器有限公司，其通讯地址为：518111 广东省深圳市龙岗区平湖街道山厦社区中环大道中科谷产业园6栋1301；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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