上海量子科学研究中心董晓君获国家专利权
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龙图腾网获悉上海量子科学研究中心申请的专利一种用于优化大尺寸晶圆薄膜均匀性的装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223255385U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422596581.1，技术领域涉及：C23C14/30；该实用新型一种用于优化大尺寸晶圆薄膜均匀性的装置是由董晓君;宿非凡;邓辉;严凯;张海斌;秦文斌;燕军祥;孙潇莹;宗华;张富荣设计研发完成，并于2024-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于优化大尺寸晶圆薄膜均匀性的装置在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种用于优化大尺寸晶圆薄膜均匀性的装置，涉及超导量子计算技术领域。一种用于优化大尺寸晶圆薄膜均匀性的装置，包括真空腔室、控制电脑、遥控手柄和样品台，所述真空腔室的内部固定连接有电子束蒸发设备、速率晶振和膜厚晶振，所述样品台和真空腔室的内顶壁之间通过螺旋支撑杆相连接，所述电子束蒸发设备的顶部放置有坩埚。多个高能电子束在交变磁场的作用下到达坩埚表面，通过控制电脑和遥控手柄控制电子束光斑在坩埚面的位置，通过多个电子束光斑的同时运行，可使坩埚中的材料熔化得更好，其蒸发时蒸发材料扩散的范围变大变密集变均匀，因此大尺寸晶圆薄膜的均匀性得到明显改善。
本实用新型一种用于优化大尺寸晶圆薄膜均匀性的装置在权利要求书中公布了：1.一种用于优化大尺寸晶圆薄膜均匀性的装置，包括真空腔室1、控制电脑11、遥控手柄12和样品台5，其特征在于：所述真空腔室1的内部固定连接有电子束蒸发设备2、速率晶振3和膜厚晶振4，所述样品台5和真空腔室1的内顶壁之间通过螺旋支撑杆6相连接，所述电子束蒸发设备2的顶部放置有坩埚7，所述坩埚7的内部放置有镀材9，所述电子束蒸发设备2的内部固定连接有用于对电子束提供电压电流的电子束高压电源装置13、灯丝14和电子加速装置15，所述真空腔室1的内部设有交变磁场21，所述电子束蒸发设备2的内部固定连接有产生高能电子束的多个电子枪22。
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