上海彤程电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司;北京大学张宁获国家专利权
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龙图腾网获悉上海彤程电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司;北京大学申请的专利一种基体树脂、光刻胶组合物、光刻胶及其制备方法和应用获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119775469B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411945189.1,技术领域涉及:C08F212/08;该发明授权一种基体树脂、光刻胶组合物、光刻胶及其制备方法和应用是由张宁;王文芳;房彩琴;董栋;刘忠范设计研发完成,并于2024-12-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基体树脂、光刻胶组合物、光刻胶及其制备方法和应用在说明书摘要公布了:本发明提供了一种基体树脂、光刻胶组合物、光刻胶及其制备方法和应用,属于光刻胶技术领域。所述基体树脂由苯乙烯、对苯氧基苯乙烯、对环氧乙基苯乙烯经聚合反应合成,重均分子量范围为2000‑50000,氧元素重量含量为1%‑1.5%,环氧值为0.2‑0.8mmolg。本发明提供的基体树脂能够参与组成一种光刻胶,通过环氧基团和酚羟基的催化反应,可进一步提升光激发后的交联程度,提高附着力,进而实现更精细的光刻过程。
本发明授权一种基体树脂、光刻胶组合物、光刻胶及其制备方法和应用在权利要求书中公布了:1.一种基体树脂,其特征在于,所述基体树脂的结构单元由以下基团组成: 所述基体树脂的重均分子量范围为2000-50000;所述基体树脂的氧元素重量含量为1%-1.5%;所述基体树脂的环氧值为0.2-0.8mmolg。
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