三星电子株式会社辛承敃获国家专利权
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龙图腾网获悉三星电子株式会社申请的专利干法清洗设备和干法清洗方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN110890263B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201910515871.X，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权干法清洗设备和干法清洗方法是由辛承敃;金石训;金伶厚;金仁基;金兑洪;朴晟见;李轸雨;车知勋;崔溶俊设计研发完成，并于2019-06-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本干法清洗设备和干法清洗方法在说明书摘要公布了：一种干法清洗设备包括：腔室；基板支撑件，支撑腔室内的基板；喷头，布置在腔室的上部，以朝向基板供应干法清洗气体，喷头包括朝向基板支撑件的方向透射激光的光学窗口；等离子体发生器，被配置为从干法清洗气体产生等离子体；以及激光照射器，穿过光学窗口和等离子体在基板上照射激光，从而加热基板。
本发明授权干法清洗设备和干法清洗方法在权利要求书中公布了：1.一种干法清洗设备，包括： 腔室； 基板支撑件，被配置为在所述腔室内支撑基板； 喷头，设置在所述腔室的上部，其中，所述喷头包括朝向所述基板供应干法清洗气体的多个喷射孔以及朝向所述基板支撑件使激光透射通过的光学窗口，其中，所述多个喷射孔朝向所述基板延伸，且所述光学窗口的下表面与所述基板的上表面平行； 等离子体发生器，被配置为从所述干法清洗气体产生等离子体；以及 激光照射器，被配置为在使用所述干法清洗气体去除所述基板上的残留材料的过程期间穿过所述光学窗口在所述基板的整个表面上均匀地原位照射激光，从而加热所述基板以增加所述干法清洗气体的化学反应速率， 其中，所述喷头的下表面平行于所述基板的表面，并且所述喷头的喷射孔相对于所述基板的表面以预定角度倾斜。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人三星电子株式会社，其通讯地址为：韩国京畿道；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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