伊利诺斯工具制品有限公司苏文华获国家专利权
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龙图腾网获悉伊利诺斯工具制品有限公司申请的专利晶片光处理装置和烧结炉获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112420870B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201910768522.9，技术领域涉及：H10F71/00；该发明授权晶片光处理装置和烧结炉是由苏文华设计研发完成，并于2019-08-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本晶片光处理装置和烧结炉在说明书摘要公布了：本申请提供一种晶片光处理装置和烧结炉，该晶片光处理装置包括：晶片支撑装置、上部光源装置和下部光源装置。所述晶片支撑装置具有支撑件，所述支撑件被配置为能够将所述晶片支撑在所述上表面的上方；所述上部光源装置设置在所述晶片支撑装置的上方，并被配置为提供朝向所述支撑件的上表面照射的光源；所述下部光源装置设置在所述晶片支撑装置的下方，并被配置为提供朝向所述支撑件的下表面照射的光源。本申请提供的晶片光处理装置能够高效地处理晶片。
本发明授权晶片光处理装置和烧结炉在权利要求书中公布了：1.一种晶片光处理装置，用于对烧结后的晶片进行光处理，其特征在于，包括： 晶片支撑装置140a,140b，所述晶片支撑装置140a,140b包括支撑件，所述支撑件具有相对设置的上表面605和下表面607，所述支撑件在从所述上表面605到所述下表面607的方向被镂空，所述支撑件被配置为能够将所述晶片支撑在所述上表面605的上方； 上部光源装置402，所述上部光源装置402设置在所述晶片支撑装置140a,140b的上方，并被配置为提供朝向所述支撑件305的所述上表面605照射的光源； 下部光源装置502，所述下部光源装置502设置在所述晶片支撑装置140a,140b的下方，并被配置为提供朝向所述支撑件305的所述下表面607照射的光源； 上部透明挡板403，所述上部透明挡板403位于所述上部光源装置402和所述晶片支撑装置140a,140b之间，并与所述上部光源装置402之间具有间距，所述上部透明挡板403上设有若干孔；以及 下部透明挡板503，所述下部透明挡板503位于所述下部光源装置502和所述晶片支撑装置140a,140b之间，并与所述下部光源装置502之间具有间距，所述下部透明挡板503不设置孔。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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