株式会社日立高新技术吉冈望获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社日立高新技术申请的专利真空处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114097064B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080020786.7，技术领域涉及：H01L21/3065；该发明授权真空处理方法是由吉冈望;大隈一畅;荒濑高男设计研发完成，并于2020-06-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本真空处理方法在说明书摘要公布了：提供能防止钛Ti系反应生成物所导致的向晶片上的异物附着的真空处理方法。真空处理方法能运用于等离子处理装置，等离子处理装置具备：配置于该真空容器内部的处理室内且载置具有含钛Ti膜的晶片的样品台；被供给用于在所述处理室内形成等离子的高频电力的线圈；和为了加热搁放于所述样品台上表面的所述晶片而辐射电磁波的加热装置，该真空处理方法具有如下工序：对含钛Ti膜进行蚀刻；和使用三氟化氮NF3气体、氩气体和氯气体的混合气体来对所述处理室内进行清洁。
本发明授权真空处理方法在权利要求书中公布了：1.一种真空处理方法，在处理室内蚀刻形成在载置于样品台的样品且含有钛的膜，所述真空处理方法的特征在于，具有： 蚀刻工序，对所述膜进行循环蚀刻；和 清洁工序，在所述蚀刻工序之后，使使用三氟化氮即NF3气体、氩即Ar气体、氯即Cl2气体和氮即N2气体的混合气体而生成的自由基与在所述处理室内沉积且含有所述钛的反应生成物反应，通过IR光对所述反应了的反应生成物进行加热从而使其脱离的同时对所述反应生成物进行清洁。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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