株式会社V技术小杉纯一获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社V技术申请的专利激光退火装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112447506B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010871334.1，技术领域涉及：H01L21/268；该发明授权激光退火装置是由小杉纯一;杨映保设计研发完成，并于2020-08-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本激光退火装置在说明书摘要公布了：本发明涉及激光退火装置及激光退火方法。激光退火装置具备：光源，其射出连续振荡的激光；以及光学头，其将从光源射出的各个激光加工成为收敛的激光束，激光束能够对应地投影到位于栅极线的上方的改质预定区域内，光学头在激光束中最收敛的点部位于改质预定区域的非晶硅膜的膜内部的状态下，在改质预定区域内沿着栅极线延伸的方向相对性地扫描激光束。
本发明授权激光退火装置在权利要求书中公布了：1.一种激光退火装置， 在基板上形成有相互平行的多个栅极线，在所述多个栅极线的上层以包覆所述多个栅极线的整体的方式成膜出非晶硅膜， 所述激光退火装置对于所述非晶硅膜照射连续振荡激光而将所述非晶硅膜的改质预定区域改质成结晶化膜，其特征在于， 所述激光退火装置具备： 多个光源，其分别射出连续振荡的激光；及 光学头，其将从多个所述光源射出的各个所述激光加工成为收敛的激光束，各个所述激光束能够依次对应地投影到位于所述栅极线的上方的所述改质预定区域内， 所述光学头在各个所述激光束中的最收敛的点部位于所述改质预定区域的所述非晶硅膜的膜内部的状态下，在所述改质预定区域内相对性地扫描所述激光束， 从所述光学头射出的所述激光束对于所述非晶硅膜的表面沿着规定的直线以恒定的间距排列地投影， 所述光学头能够旋转移动，以使多个激光束的间距与栅极线的间距相等。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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