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龙图腾网获悉罗门哈斯电子材料有限责任公司申请的专利光致抗蚀剂组合物及图案形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114063385B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110793744.3，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权光致抗蚀剂组合物及图案形成方法是由T·卡多拉西亚;J·A·迪西斯托;李忠奉;李明琦;T·马兰戈尼;C·吴;刘聪;G·P·普罗科普威克设计研发完成，并于2021-07-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本光致抗蚀剂组合物及图案形成方法在说明书摘要公布了：本文公开了一种光致抗蚀剂组合物，其包含：通过自由基聚合形成的第一聚合物，所述第一聚合物包含由包含烯属不饱和双键和酸不稳定基团的单体形成的聚合单元；光酸产生剂；具有式1的淬灭剂：其中：R1独立地是氢原子，C1‑C20直链、C3‑C20支链或C3‑20环状烷基——所述烷基除在相对于酰胺CO的α‑位置之外任选地包含‑O‑基团，或C6‑C20芳基；R2独立地是氢原子，C1‑C20直链、C3‑C20支链或C3‑C20环状烷基，或C6‑C20芳基；L是C1‑C20直链或C3‑C20支链的亚烷基，所述亚烷基包含独立地选自‑O‑、‑S‑或‑NR3‑的一个或多个含杂原子的基团，其中R3选自氢原子或C1‑C20直链或C3‑C20支链或环状烷基；R1、R2和L中的每一个可独立地是取代或未取代的；其中所述淬灭剂不含可交联的基团；以及溶剂。

本发明授权光致抗蚀剂组合物及图案形成方法在权利要求书中公布了：1.一种光致抗蚀剂组合物，其包含： 通过自由基聚合形成的第一聚合物，所述第一聚合物包含由包含烯属不饱和双键和酸不稳定基团的单体形成的聚合单元； 光酸产生剂； 具有式1的淬灭剂： 其中：R1独立地是氢原子，C1-C20直链、C3-C20支链或C3-20环状烷基，所述烷基除在相对于酰胺CO的α-位置之外任选地包含-O-基团，或C6-C20芳基；R2独立地是氢原子，C1-C20直链、C3-C20支链或C3-C20环状烷基，或C6-C20芳基；L是C1-C20直链或C3-C20支链的亚烷基，所述亚烷基包含独立地选自-O-或-S-的一个或多个含杂原子的基团，其中R1、R2和L中的每一个可独立地是取代或未取代的；其中所述淬灭剂不含可交联的基团；以及 溶剂。

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