武汉大学汪润获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉大学申请的专利基于对抗性光照的模型水印抹除方法及设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116051350B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310131775.1，技术领域涉及：G06T1/00；该发明授权基于对抗性光照的模型水印抹除方法及设备是由汪润;任纪星;李昊轩;刘丽;陈晶;王丽娜设计研发完成，并于2023-02-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于对抗性光照的模型水印抹除方法及设备在说明书摘要公布了：本发明提供了一种基于对抗性光照的模型水印抹除方法及设备。所述方法包括：步骤1，估计目标的光照，为改变图像的光照，通过添加光照扰动获取光照的强度和位置，所需的光照扰动在不牺牲预测良性样本的能力的情况下破坏水印验证的触发器，扰动会误导分类模型的预测，对抗性的重新启动扰动用于扰乱采用良性样本预测的深度神经网络模型；步骤2，定位可见的触发器，并重新定位触发器的区域，以自适应地调整注入扰动ε；步骤3，带阴影的照明渲染，采用通过建模阴影的重新方法，显示在广泛的图像重新定位应用的潜力。本发明能在不影响功能的情况下使水印无效。
本发明授权基于对抗性光照的模型水印抹除方法及设备在权利要求书中公布了：1.一种基于对抗性光照的模型水印抹除方法，其特征在于，包括：步骤1，估计目标的光照，为改变图像的光照，通过添加光照扰动获取光照的强度和位置，所需的光照扰动在不牺牲预测良性样本的能力的情况下破坏水印验证的触发器，扰动会误导分类模型的预测，对抗性的重新启动扰动用于扰乱采用良性样本预测的深度神经网络模型；步骤2，定位可见的触发器，并重新定位触发器的区域，以自适应地调整注入扰动；步骤3，带阴影的照明渲染，采用通过建模阴影的重新方法，显示在广泛的图像重新定位应用的潜力； 步骤1具体包括：针对注入扰动的强度，给定一个人脸图像I，采用人脸渲染模型兰伯特模型来表示包括，，其中，R、N、L分别表示反射率、法线和照明，f（·）为兰伯特阴影函数，照明L为九维向量的九个球面的谐波系数，通过更新照明L来生成一个新的人脸图像来误导水印验证，采用反照率商图像来获得无反射率的重构方法，新的人脸图像表示为，计算包括，；其中，I的恢复通过正常的N、原始光L和目标照明来计算。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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