中国工程物理研究院激光聚变研究中心张传超获国家专利权
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龙图腾网获悉中国工程物理研究院激光聚变研究中心申请的专利一种大口径二维连续偏振调制元件及制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116466425B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310270554.2，技术领域涉及：G02B5/30；该发明授权一种大口径二维连续偏振调制元件及制备方法是由张传超;廖威;王海军;张丽娟;蒋晓龙;方振华;蒋晓东;朱启华设计研发完成，并于2023-03-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种大口径二维连续偏振调制元件及制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种大口径二维连续偏振调制元件及制备方法。该元件表面具有二维点阵式内应力分布，每一应力点均可实现线偏振光‑椭圆偏振光‑圆偏振光‑椭圆偏振光‑圆偏振光‑线偏振光的连续偏振调制。该元件制备包括：选取抗热冲的光学玻璃作为基板；在基板某局部点进行热处理引入热残余应力作为内应力，并基于内应力的双折射效应实现该局部点的偏振连续调制；通过在基板表面引入二维热残余应力阵列实现了大口径二维连续偏振调制。该方法不仅极大简化了大口径二维连续偏振调制元件的制作流程，避免了使用昂贵的超大尺寸晶体材料，而且还实现了整个大口径光束偏振的精确调制，其激光损伤阈值高，尤其适用于大口径光束的激光装置。
本发明授权一种大口径二维连续偏振调制元件及制备方法在权利要求书中公布了：1.一种大口径二维连续偏振调制元件的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤： 步骤S1，选择抗热冲击的光学玻璃作为基板； 步骤S2，对基板上进行热处理产生热残余应力作为内应力，进而实现应力偏振调控； 步骤S2具体包括： S21选择CO2激光作为点热源辐照基板，使基板辐照点处快速加热，关闭CO2激光，降温后在基板所述辐照点处引入热残余应力，并且使基板所述辐照点处的最大光程差达到第一目标值； S22调试CO2激光辐照点之间的间距，在基板上完成阵列式辐照，进而引入二维热残余应力阵列，使基板的最大光程差达到第二目标值。
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