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北京烁科中科信电子装备有限公司蔡炀烁获国家专利权

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龙图腾网获悉北京烁科中科信电子装备有限公司申请的专利一种用于估算分析缝处离子束流宽度的方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN112670144B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:201910980460.8,技术领域涉及:H01J37/30;该发明授权一种用于估算分析缝处离子束流宽度的方法是由蔡炀烁设计研发完成,并于2019-10-15向国家知识产权局提交的专利申请。

一种用于估算分析缝处离子束流宽度的方法在说明书摘要公布了:本发明揭示了一种用于估算分析缝处离子束流宽度的方法。本发明用于离子质量分析相关的领域,主要为半导体设备中离子注入机领域。质量分析器的分辨能力主要取决于,离子束在分析缝处的宽度和分析缝本身宽度。离子束本身的宽度不易直接测量,而分析缝宽度可以控制,且质量分析器的分辨率主要有两个宽度中较宽的一个决定。本方法通过测量不同分析缝宽度时质量分析器的分辨率,可以得到由离子束束宽和分析缝缝宽决定的不同分辨率,进而可以估算分析缝处离子束本身的宽度。

本发明授权一种用于估算分析缝处离子束流宽度的方法在权利要求书中公布了:1.一种用于估算分析缝处离子束流宽度的方法,至少包含离子源、质量分析器、宽度可调的分析缝以及法拉第杯,其特征在于,包含以下步骤: 步骤一、将分析缝宽度设置为某固定宽度D1,计算此条件下,质量分析系统的分辨率R1; 步骤二、将分析缝宽度从宽度D1调整为D2,计算此条件下,质量分析系统的分辨率R2; 步骤三、将步骤二中的D2调整为D3、D4……Dn,分别计算其对应的分辨率R3、R4……Rn; 步骤四、定义αi为分析缝宽度Di与对应系统分辨率Ri的乘积,计算α1、α2……αn,其中,i=1、2……n; 步骤五、比较α1、α2……αn,选出较大且较为接近的几个αi,求其平均值αA; 步骤六、比较α1、α2……αn,选出较低的几个αi,与其对应的Ri,从中选出的Ri数值应较为接近,去除误差较大的值后,求剩余Ri的平均值RA; 步骤七、计算比较αARA,即为分析缝处离子束流宽度的估值; 其中,分析缝宽度为Di时质量分析系统的分辨率Ri的计算公式为I3[2I5-I4]; I3为分析缝宽度为Di时检测到的离子束流的最大值IMAX对应的质量分析器电流,I5为分析缝宽度为Di时检测到的离子束流的最大值的一半IMAX2对应的较大质量分析器电流,I4为分析缝宽度为Di时检测到的离子束流的最大值的一半IMAX2对应的较小质量分析器电流。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人北京烁科中科信电子装备有限公司,其通讯地址为:101111 北京市通州区光机电一体化产业基地兴光二街6号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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