东京毅力科创株式会社佐佐木新二获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利液体处理装置以及液体处理装置的控制方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111916343B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010348906.8，技术领域涉及：H01L21/027；该发明授权液体处理装置以及液体处理装置的控制方法是由佐佐木新二设计研发完成，并于2020-04-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本液体处理装置以及液体处理装置的控制方法在说明书摘要公布了：本发明涉及液体处理装置以及液体处理装置的控制方法，其能够对送入液体处理装置为止的受到来自于气氛的温度影响的基板进行均匀的液体处理。一种液体处理装置，其向基板供给处理液来对该基板进行处理，其中，该液体处理装置具有：卡盘，其能够保持所述基板并使其旋转；以及卡盘温度调整构件，其能够向相对于所述卡盘靠近或接触的靠近位置和与所述靠近位置相比远离所述卡盘的退避位置移动。
本发明授权液体处理装置以及液体处理装置的控制方法在权利要求书中公布了：1.一种液体处理装置，其向基板供给处理液来对该基板进行处理，其中， 该液体处理装置具有： 卡盘，其能够保持所述基板并使其旋转； 卡盘温度调整构件，其能够向相对于所述卡盘靠近或接触的靠近位置和与所述靠近位置相比远离所述卡盘的退避位置移动；以及 控制部，其对使所述卡盘温度调整构件靠近或接触所述卡盘而进行所述卡盘的温度调整的作业和使所述卡盘温度调整构件远离所述卡盘而不进行所述卡盘的温度调整的作业进行切换， 其中，所述控制部构成为：在不对所述基板进行处理的待机时，使所述卡盘温度调整构件靠近或接触未保持有所述基板的所述卡盘而进行所述卡盘的温度调整的作业；以及在对所述基板进行处理时，使所述卡盘温度调整构件远离所述卡盘而不进行所述卡盘的温度调整的作业，并使所述基板保持于所述卡盘，向该基板供给所述处理液。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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