成都虹波实业股份有限公司任柴获国家专利权
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龙图腾网获悉成都虹波实业股份有限公司申请的专利一种增强镀钌钼片及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120231008B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510704278.5，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种增强镀钌钼片及其制备方法是由任柴;李鹏飞;张洋;陈栋玭;何航设计研发完成，并于2025-05-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种增强镀钌钼片及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种增强镀钌钼片及其制备方法，属于镀钌钼片的技术领域。所述制备方法包括：通过磁控溅射的方式，在钼片表面真空溅射镀一层厚度为0.1~0.5μm的高纯钼镀层，获得镀钼钼片；将镀钼钼片进行氧化酸洗及离子清洗，其后通过气相沉积的方式，在清洗后的镀钼钼片表面沉积一层厚度为0.5~1μm的钌镀层，得到所述增强镀钌钼片。本发明的制备方法对钼片基体的要求较低，可以直接使用未进行研磨的轧制钼片，并在基体上形成附着牢固且结合紧密的钌镀层，得到增强的镀钌钼片。
本发明授权一种增强镀钌钼片及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种增强镀钌钼片的制备方法，其特征在于，其包括： （1）以高纯钼作为靶材，通过磁控溅射处理，在钼片表面镀一层厚度为0.1~0.5μm的高纯钼镀层，获得镀钼钼片； （2）将所述镀钼钼片进行氧化酸洗，得到酸洗后镀钼钼片； （3）通过改进的阳极层离子源对所述酸洗后镀钼钼片进行离子清洗活化，得到活化后镀钼钼片，所述改进的阳极层离子源为将普通阳极层离子源的内阴极和外阴极材料替换为高纯钼获得； （4）通过气相沉积处理，在所述活化后镀钼钼片表面沉积一层厚度为0.5~1μm的钌镀层，得到所述增强镀钌钼片。
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