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龙图腾网获悉日本电石工业株式会社申请的专利光学构件保护膜用粘合剂组合物和光学构件保护膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113429916B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110301427.5，技术领域涉及：C09J133/08；该发明授权光学构件保护膜用粘合剂组合物和光学构件保护膜是由池元智拾;藤川春奈;鸭井彬;狩野肇设计研发完成，并于2021-03-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本光学构件保护膜用粘合剂组合物和光学构件保护膜在说明书摘要公布了：本发明是一种光学构件保护膜用粘合剂组合物和光学构件保护膜，所述光学构件保护膜用粘合剂组合物包含：具有羟基和羧基中的至少一者并且重均分子量超过20万且为200万以下的范围的甲基丙烯酸系聚合物A，具有羟基和羧基中的至少一者、玻璃化转变温度为0℃～45℃且重均分子量为6000～15万的甲基丙烯酸系聚合物B，玻璃化转变温度为－30℃以下且重均分子量为6000～15万的甲基丙烯酸系聚合物C，和异氰酸酯系交联剂D；相对于甲基丙烯酸系聚合物A100质量份，甲基丙烯酸系聚合物B的含量为7质量份～70质量份，相对于甲基丙烯酸系聚合物A100质量份，甲基丙烯酸系聚合物C的含量为0.5质量份～5质量份。

本发明授权光学构件保护膜用粘合剂组合物和光学构件保护膜在权利要求书中公布了：1.一种光学构件保护膜用粘合剂组合物，包含： 甲基丙烯酸系聚合物A，其具有羟基和羧基中的至少一者，羟值为0.3mgKOHg以上且40mgKOHg以下的范围、或者酸值为0.7mgKOHg以上且24mgKOHg以下的范围，玻璃化转变温度为-40℃以下，并且重均分子量超过20万且为200万以下的范围， 甲基丙烯酸系聚合物B，其具有羟基和羧基中的至少一者，来自具有羟基的单体的构成单元的含有率相对于全部构成单元为0.1质量％以上且10质量％以下的范围、或者来自具有羧基的单体的构成单元的含有率相对于全部构成单元为0.1质量％以上且5质量％以下的范围，玻璃化转变温度为0℃以上且45℃以下的范围，并且重均分子量为6000以上且15万以下的范围， 甲基丙烯酸系聚合物C，其玻璃化转变温度为－30℃以下，不含来自具有羧基的单体的构成单元、或者来自具有羧基的单体的构成单元的含有率相对于全部构成单元为超过0质量％以上且1质量％以下的范围，并且重均分子量为6000以上且15万以下的范围，和 异氰酸酯系交联剂D； 相对于100质量份的所述甲基丙烯酸系聚合物A，所述甲基丙烯酸系聚合物B的含量为7质量份以上且70质量份以下的范围， 相对于100质量份的所述甲基丙烯酸系聚合物A，所述甲基丙烯酸系聚合物C的含量为0.5质量份以上且5质量份以下的范围。

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