天勤光电股份有限公司陈鸿介获国家专利权
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龙图腾网获悉天勤光电股份有限公司申请的专利光投射结构获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115493121B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110671382.0,技术领域涉及:F21S41/20;该发明授权光投射结构是由陈鸿介;周展生;王志宾;邱焕评设计研发完成,并于2021-06-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本光投射结构在说明书摘要公布了:本发明提出一种光投射结构,其将该辅助灯装置设置于该主灯装置一侧,该主灯装置投射出一第一光形图案,而该辅助灯装置投射出一第二光形图案,其中该第二光形图案上包含一缺口部,该主灯装置投射的一第一光形图案投射至该缺口部上,使得该主灯装置结合该辅助灯装置能够增加投射光线的范围,产生更加均匀的光形图案,并提升光照射区域。
本发明授权光投射结构在权利要求书中公布了:1.一种光投射结构,其特征在于,其包含: 一主灯装置,其投射出一第一光形图案;以及 一辅助灯装置,其设置于该主灯装置一侧,该辅助灯装置包含: 一第二发光模块,该第二发光模块发出一第二光线; 一第二光偏转装置,其设置于该第二发光模块一侧,该第二光线投射至该第二光偏转装置,并经由该第二光偏转装置反射;以及 一第二透镜装置,其设置于该第二光偏转装置的一第二出光侧,部分该第二光线经由该第二光偏转装置反射通过该第二透镜装置,以及另一部分该第二光线经由该第二光偏转装置反射至一第二光形转换装置上,而于该第二透镜装置投射出一第二光形图案,该第二光形转换装置包含一固定部; 其中,该第二光形图案中包含一缺口部,该第一光形图案投射于该缺口部上。
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