上海艾深斯科技有限公司郑学刚获国家专利权
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龙图腾网获悉上海艾深斯科技有限公司申请的专利新型化学增幅正性光致抗蚀剂组合物及其制备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119126491B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310692140.9，技术领域涉及：G03F7/039；该发明授权新型化学增幅正性光致抗蚀剂组合物及其制备是由郑学刚设计研发完成，并于2023-06-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本新型化学增幅正性光致抗蚀剂组合物及其制备在说明书摘要公布了：本发明涉及新型聚合物和含有所述聚合物的组合物，从而提供基于聚合物的光致抗蚀剂用于光刻法例如KrF中的不同应用。本发明的光致抗蚀剂组合物包含乙酰氧基苯乙烯共聚物和羟基苯乙烯共聚物的混合物。
本发明授权新型化学增幅正性光致抗蚀剂组合物及其制备在权利要求书中公布了：1.组合物，包含共聚物A和共聚物B的两种共聚物的混合物，其中： 共聚物A是具有溶解抑制乙酰氧基基团、侧链光酸产生剂基团和光酸可解离基团的乙酰氧基苯乙烯共聚物，其中共聚物A包含等于或大于60mol%的含芳族基团，基于单体的总摩尔数，其中共聚物A中含有的侧链光酸产生剂基团是2,3,5,6-四氟-4-甲基丙烯酰氧基苯磺酸三苯基锍基团；和 共聚物B是具有碱溶性羟基基团和光酸可解离基团的羟基苯乙烯共聚物，其中共聚物B包含等于或大于60mol%的含芳族基团，基于单体的总摩尔数; 其中共聚物A和共聚物B中含有的含芳族基团选自以下：苯基、联苯基和萘；和 其中共聚物A和共聚物B中含有的光酸可解离基团选自以下： 甲基丙烯酸烷基酯基团，其中烷基选自以下：甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、叔丁基、戊基和异戊基；和 2-烷基-2-金刚烷基甲基丙烯酸酯基团，其中烷基选自以下：甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、叔丁基、戊基和异戊基。
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