信越化学工业株式会社木下隆裕获国家专利权
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龙图腾网获悉信越化学工业株式会社申请的专利光掩膜坯料关联基板的评价方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN110618582B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201910531526.5，技术领域涉及：G03F1/84；该发明授权光掩膜坯料关联基板的评价方法是由木下隆裕设计研发完成，并于2019-06-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本光掩膜坯料关联基板的评价方法在说明书摘要公布了：技术问题：提供一种光掩膜坯料关联基板的评价方法，在光掩膜坯料关联基板中，能够简便地评价其表面状态例如，形成于透明基板上的光学膜等的透射率、光学常数以外的膜质。解决方案：在光掩膜坯料关联基板的评价方法中，拍摄所述光掩膜坯料关联基板的表面而获取表面图像，并从该获取的表面图像中获取该表面图像的对比度，并利用该获取的表面图像的对比度来评价所述光掩膜坯料关联基板。
本发明授权光掩膜坯料关联基板的评价方法在权利要求书中公布了：1.一种光掩膜坯料关联基板的表面状态的评价方法，其在缺陷检查前实施，其特征在于， 拍摄所述光掩膜坯料关联基板的表面而获取表面图像， 从该获取的表面图像中获取该表面图像的对比度， 利用该获取的表面图像的对比度来评价所述光掩膜坯料关联基板，以预先排除具有疑似缺陷的光掩膜坯料关联基板， 当评价所述光掩膜坯料关联基板时，进行： 标准对比度获取工序，预先准备作为标准的光掩膜坯料关联基板，并获取该标准光掩膜坯料关联基板的表面图像的对比度作为标准对比度； 评价对象对比度获取工序，准备与所述标准光掩膜坯料关联基板不同的评价对象的光掩膜坯料关联基板，并用与所述标准对比度获取工序相同的光学系统来获取所述评价对象光掩膜坯料关联基板的表面图像的对比度作为评价对象对比度；以及 对比度比较工序，通过比较所述评价对象对比度与所述标准对比度，从而评价所述评价对象光掩膜坯料关联基板。
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