奥提赞光晶(上海)显示技术有限公司张梦华获国家专利权
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龙图腾网获悉奥提赞光晶(上海)显示技术有限公司申请的专利一种全息光栅曝光装置和全息光栅制备系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223180433U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422613930.6，技术领域涉及：G02B5/18；该实用新型一种全息光栅曝光装置和全息光栅制备系统是由张梦华;李州;杨永泉;栗杰;祝陈晨设计研发完成，并于2024-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种全息光栅曝光装置和全息光栅制备系统在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种全息光栅曝光装置和全息光栅制备系统，全息光栅曝光装置包括全息干板、导光棱镜和光源组件，导光棱镜设于全息干板上，全息干板与导光棱镜之间设有匹配液层；导光棱镜上设有朝向全息干板的接触面，以及与接触面相邻的第一入光面；光源组件用于射出第一光束和第二光束，第一光束垂直射向全息干板，第二光束垂直射向第一入光面，并在导光棱镜中以全反射角度射向全息干板；并且第二光束和第一光束同时射向全息干板上的同一曝光区域。第二光束从导光棱镜射入全息干板，并以全反射角度进入全息干板，在全息干板中第一光束和第二光束形成干涉条纹，可制备大尺寸的全息光栅。
本实用新型一种全息光栅曝光装置和全息光栅制备系统在权利要求书中公布了：1.一种全息光栅曝光装置，其特征在于，包括： 全息干板； 导光棱镜，设于所述全息干板上，所述全息干板与所述导光棱镜之间设有匹配液层；所述导光棱镜上设有朝向所述全息干板的接触面，以及与所述接触面相邻的第一入光面； 光源组件，所述光源组件用于射出第一光束和第二光束，所述第一光束垂直射向所述全息干板，所述第二光束垂直射向所述第一入光面，并在所述导光棱镜中以全反射角度射向所述全息干板；并且所述第二光束和所述第一光束同时射向所述全息干板上的同一曝光区域。
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