理想万里晖半导体设备(上海)股份有限公司聂红洲获国家专利权
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龙图腾网获悉理想万里晖半导体设备(上海)股份有限公司申请的专利PVD腔用硅片清扫组件获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223176194U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422976971.1，技术领域涉及：C23C14/56；该实用新型PVD腔用硅片清扫组件是由聂红洲;徐升东设计研发完成，并于2024-12-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本PVD腔用硅片清扫组件在说明书摘要公布了：本实用新型提供PVD腔用硅片清扫组件。所述PVD腔用硅片清扫组件设置在PVD腔中向上溅射的靶材下方，用于清扫从靶材上方的载板掉落且搭接在靶材与相邻阳极之间的硅片，所述PVD腔用硅片清扫组件包括刮板模块、相邻所述靶材并行设置的导轨以及驱动刮板模块沿着导轨移动以清扫搭接在靶材与相邻阳极之间的硅片的驱动模块，所述刮板模块包括与所述靶材形状相匹配的刮板以及用于设置刮板且沿着导轨移动的基座。本实用新型能不破真空而清扫搭接在靶材与相邻阳极之间的硅片，使PVD设备能快速恢复到正常生产状态从而提高产能。
本实用新型PVD腔用硅片清扫组件在权利要求书中公布了：1.一种PVD腔用硅片清扫组件，设置在PVD腔中向上溅射的靶材下方，用于清扫从靶材上方的载板掉落且搭接在靶材与相邻阳极之间的硅片，其特征在于，所述PVD腔用硅片清扫组件包括刮板模块、相邻所述靶材并行设置的导轨以及驱动刮板模块沿着导轨移动以清扫搭接在靶材与相邻阳极之间的硅片的驱动模块，所述刮板模块包括与所述靶材形状相匹配的刮板以及用于设置刮板且沿着导轨移动的基座。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人理想万里晖半导体设备(上海)股份有限公司，其通讯地址为：201306 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区江山路2699弄3号厂房；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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